申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请日：2020-01-07

公开（公告）日：2020-07-17

公开（公告）号：CN111427239A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G02B5/30(20060101)

优先权：["20190109 DE 102019200193.9"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.01.11#实质审查的生效;2020.07.17#公开

摘要：本发明涉及一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统。光学系统包括：至少一个影响偏振的布置，其至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元，它们各具有第一反射表面和第二反射表面。在相同的双反射表面单元内，第一反射表面和第二反射表面以距离d1且以0°±10°的角度直接相邻地布置。第一双反射表面单元的第一反射表面和第二双反射表面单元的第二反射表面以距离d2且以0°±10°的角度直接相邻地布置。在第一反射表面上入射的光与第一反射表面形成的角度为43°±10°，特别是43°±5°。在操作光学系统期间，将在第一双反射表面单元的第一反射表面上入射的光反射朝向第二双反射表面单元的第二反射表面。对于距离d1和d2，以下是成立的：d2＞5*d1。

主权项：1.一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统，包括：至少一个影响偏振的布置124、224、324、424、524、624、724，至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元128、228、328、428、528、728；其中所述至少两个双反射表面单元各具有第一反射表面128.1、228.1、328.1、428.1、528.1和第二反射表面128.2、228.2、328.2、428.2、528.2；其中在相同的双反射表面单元内，在各个情况下所述第一反射表面和所述第二反射表面相对于彼此以距离d1且以0°±10°的角度直接相邻地布置；其中，所述第一双反射表面单元的第一反射表面和所述第二双反射表面单元的第二反射表面相对于彼此以距离d2且以0°±10°的角度直接相邻地布置；其中在操作所述光学系统期间，在所述第一反射表面上入射的光125、225、325、425、525与所述第一反射表面形成的角度为43°±10°；以及其中在操作所述光学系统期间，将在所述第一双反射表面单元的第一反射表面上入射的光朝向所述第二双反射表面单元的第二反射表面反射；以及其中，以下是成立的：d2＞5*d1。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 投射曝光设备的光学系统

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