申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司

申请日：2019-01-16

公开（公告）日：2020-07-24

公开（公告）号：CN111446236A

主分类号：H01L27/02(20060101)

分类号：H01L27/02(20060101);H01L27/112(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.08.08#授权;2020.08.18#实质审查的生效;2020.07.24#公开

摘要：一种带状单元版图及存储器版图、带状单元结构及存储器，带状单元版图包括：第一版图，包括两个平行排列的条形有源区图形和至少一个有源连接区图形，有源区图形的延伸方向为第一方向，与第一方向相垂直的为第二方向，有源连接区图形位于两个有源区图形之间；第二版图，包括多个间隔设置的栅极图形，沿第二方向横跨两个有源区图形且沿第一方向平行排列，相邻两条栅极图形呈镜像对称；其中，每一个有源连接区图形位于相邻两条栅极图形之间。本发明一方面改善了栅极图形的形状一致性，并降低了栅极图形总面积和单根栅极图形的面积，从而提高栅极层的寄生负载均一性、减低寄生负载，进而在减小存储器整体版图尺寸的同时，提高所形成存储器的性能。

主权项：1.一种带状单元版图，其特征在于，包括：第一版图，包括两个平行排列的条形有源区图形和至少一个有源连接区图形，所述有源区图形的延伸方向为第一方向，与所述第一方向相垂直的方向为第二方向，所述有源连接区图形位于所述两个有源区图形之间；第二版图，包括多个间隔设置的栅极图形，所述多个栅极图形沿所述第二方向横跨所述两个有源区图形且沿所述第一方向平行排列，相邻两条栅极图形呈镜像对称；其中，每一个所述有源连接区图形位于相邻两条栅极图形之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 带状单元版图及存储器版图、带状单元结构及存储器

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