申请/专利权人：南京原觉信息科技有限公司

申请日：2017-05-18

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN108956610B

主分类号：G01N21/88(20060101)

分类号：G01N21/88(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.09.15#授权;2019.01.01#实质审查的生效;2018.12.07#公开

摘要：本发明关于工业视觉探伤系统及探伤方法，系统包含一底座、一工件支架、单色光源照射装置及摄像装置，单色光源照射装置及摄像装置均朝向工件支架；转动装置使工件支架上的工件相对转动；单色光射进工件上窄且深的裂纹之后不易反射出来，但单色光射进工件上的相对较浅且宽的外伤浅坑时，便会产生镜面反射藉以辨别此为外伤造成的伤痕是否为裂纹；本发明通过入射角度变化来检测是否产生大面积的镜面反射而使摄像装置在成像时过度曝光现象的原理来辨别工件上的损伤为裂纹还是外伤浅坑的方法，这不同于传统的荧光探伤法需要用到有一定污染性的溶剂，因此，不会对环境或人体造成伤害，并可用于检测管状工件的内壁面。

主权项：1.一种工业视觉探伤系统，其特征在于，包含：一底座；一工件支架，其设于该底座上，且用于放置待检测的工件，所述工件为锻件；至少一个单色光源照射装置，其设于该底座上，且朝向该工件支架；至少一个摄像装置，其设于该底座上，且朝向该工件支架；转动装置，其设于该底座上，且使该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置能与该工件支架上的该工件相对转动；一分析装置，其与该至少一个摄像装置电连接，并分析该至少一个摄像装置所拍摄的画面，该分析装置从该画面中识别因镜面反射而造成过度曝光的痕迹，并与画面中的工件上的所有痕迹进行比对，确认是否有痕迹没有过度曝光，没有过度曝光的痕迹便为裂纹，有过度曝光的痕迹为外伤碰撞造成的痕迹。

全文数据：工业视觉探伤系统及工业视觉探伤方法技术领域[0001]本发明涉及一种通过视觉检测产品损伤类别的系统及方法，尤指一种可辨别锻件裂纹及外伤的系统及方法。背景技术[0002]现今社会中，有许多用品或零件是圆柱状的金属工件经过各种加工所制成，例如锻造、铸造、车削等等，而工件在加工过程中，可能会因高速摩擦等原因而逐渐升温，或甚至直接进行热处里等等，而当之后工件降温冷却时，金属工件内的晶体排列可能会有所改变请参阅图15所示，此时工件表面上便可能形成裂纹A，由于裂纹A对于工件的结构强度造成极大的影响，因此工件均会经过检测以筛选出具有裂纹A的不良品；请参阅图16所示，然而工件制作或运送过程时，也可能会因碰撞而造成擦伤等伤痕B，而该种伤痕B对于整体结构强度的影响微乎其微而可忽略，但是热处理时形成的裂纹A与因外伤而形成的伤痕B难以通过肉眼辨别，因此，便需要通过特别的检测方法来辨别及筛选。[0003]现有技术中最常见的为萤光法，首先将工件磁化之后，将工件混上磁性萤光粉，之后再以水冲洗将萤光粉冲掉；由于裂纹相对较窄且深，而外伤的伤痕则相对较宽且浅，因此嵌于裂纹内的萤光粉难以被水冲走，故工件冲洗完毕后以萤光灯照射，会发出萤光的痕迹便为裂纹。[0004]然而前述的萤光法有其缺点：其一，蛮光粉会对环境造成污染，对人体也有害，因此不宜大量使用；其二，若工件为管状，则工件的内壁面也可能会有裂纹，而萤光法难以用于检测内壁面。发明内容[0005]有鉴于前述的现有技术的缺点及不足，本发明提供一种工业视觉探伤系统及工业视觉探伤方法，其不会对环境造成污染也不会伤害人体，并且适用于管状工件的外壁面及内壁面。[0006]为达到上述的发明目的，本发明所采用的技术手段为设计一种工业视觉探伤系统，其中包含：[0007]—底座；[0008]一工件支架，其设于该底座上，且用于放置待检测的工件；[0009]至少一单色光源照射装置，其设于该底座上，且朝向该工件支架；[0010]至少一摄像装置，其设于该底座上，且朝向该工件支架；[0011]一转动装置，其设于该底座上，且使该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置能与该工件支架上的该工件相对转动；[0012]一分析装置，其与该至少一个摄像装置电连接，并分析该至少一个摄像装置所拍摄的画面，该分析装置从该画面中识别因镜面反射而造成过度曝光的痕迹。[0013]为达到上述的发明目的，本发明进一步提供一种工业视觉探伤方法，其中包含以下步骤：[0014]准备步骤:准备一工件、一单色光源照射装置及一摄像装置，并使该单色光源照射装置及该摄像装置朝向该工件；[0015]录像步骤:使该单色光源照射装置及该摄像装置与该工件相对转动，同时该单色光源照射装置以一单色光照射该工件，且该摄像装置对该工件进行录像；[0016]辨别步骤：以一分析装置从该摄像装置所拍摄的画面中，识别出因镜面反射而造成过度曝光的痕迹并记录下来，之后将该工件的所有痕迹与有过度曝光的痕迹进行比对，若有痕迹没有过度曝光，则该没有过度曝光的痕迹即为裂纹。[0017]本发明的优点在于，将单色光照射于工件时，单色光射进窄且深的裂纹之后不易反射出来，但当单色光射进相对较浅且宽的外伤浅坑时，便会镜面反射地反射而出，而在持续转动的过程中，当反射光平行射入摄像装置时，会因角度正对而能量集中，造成过度曝光而形成显目的白色，由此便可辨别此为外伤造成的伤痕而非热处理形成的裂纹;本发明通过入射角度变化来检测是否产生大面积的镜面反射以平行射入摄像装置，而使摄像装置在成像时造成过度曝光现象的原理来辨别热处理形成的裂纹及外伤造成的伤痕，而仅使用单色光源照射装置及摄像装置便可检测，因此不会对环境或人体造成伤害，也不同于传统的荧光探伤法需要用到有一定污染性的溶剂;此外将单色光源照射装置及摄像装置设于管状工件的通道中，便可用于检测管状工件的内壁面;最后，相较于现有技术的萤光法，本发明可通过全自动的方式来检测，进而可降低人力成本并提升检测效率。[0018]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其中该转动装置用于转动该工件支架上的该工件，该工件支架包含两第一滚轮座及两第二滚轮座，该第一滚轮座及该第二滚轮座间隔设置;各该第一滚轮座上枢设有一滚轮，该两第一滚轮座上的该滚轮分别抵靠该工件的两侧;各该第二滚轮座上枢设有一滚轮，该两第二滚轮座上的该滚轮分别抵靠该工件的两侧。[0019]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其中该工件支架进一步包含两滚轮座轨道，该两第一滚轮座能移动地设于其中一该滚轮座轨道上，该两第二滚轮座能移动地设于另一该滚轮座轨道上。[0020]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其中该工件支架进一步包含两底座轨道，该底座轨道的延伸方向与该滚轮座轨道的延伸方向垂直，各该滚轮座轨道能移动地跨设于该两底座轨道上。[0021]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一光源支架，其设于该底座上，且该至少一单色光源照射装置能上下移动且能调整俯仰角度地设于该光源支架上。[0022]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一摄像支架，其设于该底座上，且该至少一摄像装置能上下移动且能调整俯仰角度地设于该摄像支架上。[0023]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其中该至少一摄像装置能横向移动地设于该摄像支架上。[0024]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一内藏架板，其位于该工件支架的上方，且用于穿设于该工件中，该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置设于该内藏架板上。[0025]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其中该转动装置用于转动该工件支架上的该工件，该转动装置包含马达及一抵靠轮;该马达设于该底座上;该抵靠轮与该马达连接，且被该马达转动，该抵靠轮用于抵靠于该工件支架上的该工件。[0026]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其中该转动装置进一步包含滑座及主架体;该滑座设于该底座上;该主架体能移动地设于该滑座上;该马达及该抵靠轮设于该主架体上。[0027]优选地，所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一外罩，其设于该底座上，且套设包覆于该工件支架、该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置外，该外罩的内壁面为不反射的黑色壁面。附图说明[0028]图1是本发明的探伤系统的第一实施例的立体外观图。[0029]图2是本发明的探伤系统的第一实施例的内部元件立体外观图。[0030]图3及图4是本发明的探伤系统的第一实施例使用于不同大小的工件的侧视示意图。[0031]图5是本发明的探伤系统的第一实施例的前视示意图。[0032]图6是本发明的探伤系统的第一实施例的光源支架及摄像支架的立体外观图。[0033]图7是本发明的探伤系统的第二实施例的前视示意图。[0034]图8是本发明的探伤系统的第二实施例的内藏架板、单色光源照射装置及摄像装置的前视示意图。[0035]图9是本发明的探伤系统的第二实施例的内藏架板、单色光源照射装置及摄像装置的侧视示意图。[0036]图10是本发明的探伤方法的流程图。[0037]图n是本发明的探伤方法的镜面反射示意图。[0038]图12是本发明的摄像装置所接收的能量变化示意图。[0039]图I3是本发明的摄像装置所录像的裂纹未过度曝光的影像。[0040]图14是本发明的摄像装置所录像的伤痕过度曝光的影像。[0041]图15是工件的裂纹的示意图。[0042]图16是工件的伤痕的示意图。[0043]图17是光线进入裂纹的示意图。[0044]图18是光线进入伤痕的示意图。[0045]图19是本发明的探伤系统的另一实施例的转动装置示意图。[0046]符号说明[0047]10、10A底座20工件支架[0048]21底座轨道22滚轮座轨道[0049]23第一滚轮座231滚轮[0050]24第二滚轮座241滚轮[0051]30转动装置31、31A滑座[0052]32、32A主架体33马达[0053]Ml皮带轮332皮带[0054]34抵靠轮40光源支架[0055]41立柱411齿条[0056]42升降座421螺丝[0057]43结合座431螺丝[0058]50单色光源照射装置60摄像支架[0059]61支脚62连接座[0060]621螺丝622螺丝[0061]63横架631长孔[0062]70摄像装置80外罩[0063]81门板100工件[0064]20A工件支架50A单色光源照射装置[0065]70A摄像装置90A内藏架板[0066]100A工件具体实施方式[0067]以下配合图式及本发明的较佳实施例，进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段。[0068]请参阅图1及图2所示，本发明的工业视觉探伤系统的第一实施例包含一底座10、一工件支架20、一转动装置30、一光源支架40、一单色光源照射装置50、一摄像支架60、多个摄像装置70、一外罩80及一分析装置。[0069]底座10在本实施例中为一平板式的平台，但不以此为限，也可为其他构造。[0070]请参阅图2至图5所示，工件支架20设于底座上，且用于放置待检测的工件100,在本实施例中，工件支架20包含两底座轨道21、两滚轮座轨道22、两第一滚轮座23及两第二滚轮座24。[0071]两底座轨道21间隔设置，在本实施例中，各底座轨道21为一长圆杆，但不以此为限。[0072]滚轮座轨道22的延伸方向与底座轨道21的延伸方向垂直，两滚轮座轨道22均能移动地跨设于两底座轨道21上;在本实施例中，滚轮座轨道22略呈梯形，且滚轮座轨道22的两端的底部分别套设于两底座轨道21。[0073]两第一滚轮座23能移动地且能固定地设于其中一滚轮座轨道22上，两第二滚轮座24能移动地且能固定地设于另一滚轮座轨道22上，藉此可通过底座轨道21及滚轮座轨道22任意调整两第一滚轮座23及两第二滚轮座24的水平位置；[0074]在本实施例中，各第一滚轮座23及各第二滚轮座24上均设有一螺丝，该螺丝能转动至紧抵滚轮座轨道22,进而使第一滚轮座23或第二滚轮座24固定于滚轮座轨道22上，而当该螺丝旋松时，则第一滚轮座23或第二滚轮座24可于滚轮座轨道22上来回移动，藉由调整两第一滚轮座23的间距及调整两第二滚轮座24的间距，而可放置不同尺寸的工件1〇〇如图3及图4所示）；此外，两第一滚轮座23的间距及两第二滚轮座24的间距也可以不同，藉以适用于外径有所变化的工件100;再者，滚轮座23、24与滚轮座轨道22的结合结构不以上述为限，也可视需求而调整。[0075]各第一滚$座23上枢设有一滚轮231，两第一滚轮座23上的滚轮231分别抵靠工件100的两侧;各第二滚轮座24上枢设有一滚轮241，两第二滚轮座24上的滚轮241分别抵靠工件100的两侧;藉由使用滚轮231、241来支撑工件100,因此当工件100转动时，可降低磨擦力以避免伤害到工件100;另外，工件支架2〇的结构也不以上述为限，仅要能用于支撑工件7〇0即可。[0076]转动装置30设于底座10上，且使单色光源照射装置50及摄像装置70能与工件支架20上的工件100相对转动;在本实施例中，转动装置30是用于转动工件支架20上的工件100，但不以此为限，转动装置30也可用于转动单色光源照射装置50及摄像装置70,仅要能使单色光源照射装置50及摄像装置70与工件支架20上的工件100相对转动即可。[0077]在本实施例中，转动装置3〇包含一滑座31、一主架体32、一马达33及一抵靠轮34;滑座31设于底座10上，主架体32能移动且能固定地设于滑座31上，具体来说，滑座31上设有一螺丝，该螺丝能转动至紧抵主架体32的底端，进而使主架体32固定于滑座31上，而当该螺丝旋松时，则主架体32可相对滑座31移动；马达33及抵靠轮34均设于主架体32上，马达33的输出轴上通过一皮带轮331及一皮带332带动抵靠轮34转动，抵靠轮34则用于抵靠及转动工件支架20上的工件100;藉由使转动装置30可相对底座10移动，以可抵靠于不同尺寸的工件100，但不以此为限，也可将抵靠轮34改为能上下移动，如此同样可抵靠于不同尺寸的工件100;转动装置30的构造不以上述为限，仅要能转动工件100即可。[0078]此外，请参阅19所示，在其他实施例中，也可将滑座31A加长，以加大主架体32A能相对底座10A移动调整的距离。[0079]此外，前述的转动装置30是通过抵靠于工件100的径向外壁面来转动工件1〇〇,而工件支架20的滚轮座23、24同样是抵靠于工件100的径向外壁面来支撑工件1〇〇,如此一来便不会接触到让工件100的轴向两端，因此让工件100的轴向两端保有其他用途，例如于后叙的第二实施例中，方便让内藏架板90A从工件100A的轴向两端穿设进工件100A中（如图7至图9所示）。[0080]请参阅图2、图3、图5及图6所示，光源支架40设于底座10上，而单色光源照射装置50能上下移动且能调整俯仰角度地设于光源支架40上，单色光源照射装置50朝向工件支架20;在本实施例中，光源支架40包含一立柱41、一升降座42及两结合座43;立柱41设于底座10上;升降座42能上下移动地套设于立柱41上，升降座42上贯穿设有一螺丝421紧抵于立柱41上以选择性地固定升降座42与立柱41的相对位置;此外，立柱41上可设有一齿条411来卡合升降座42,如此可精确地调整升降座42与立柱41的相对位置;两结合座43可上下转动地套设于升降座42上，各结合座43贯穿设有一螺丝431紧抵于升降座42以选择性地固定结合座43及升降座42的相对角度;而设于结合座43上的单色光源照射装置50藉此可调整高度位置及俯仰角度;但光源支架40的结构不以此为限，甚至也可没有光源支架40而直接让单色光源照射装置50设于底座10上。[0081]在本实施例中，单色光源照射装置50的颜色为红色，其具有较长的波长及感光敏感的特性，但同样不以此为限，也可依情形而改为其他颜色。[0082]在本实施例中仅有单一个单色光源照射装置50,但不以此为限，也可视需求而改为多个。[0083]摄像支架60设于底座10上，且摄像装置70能上下移动且能调整俯仰角度地设该摄像支架60上，摄像装置70朝向工件支架20;在本实施例中具有多个个摄像装置70，该等摄像装置70成一直线地排列设置于摄像支架60上，藉此适用于长条状的工件100,但不以此为限，也可视要照射的工件100大小及形状而采用其他数量或排列方式的摄像装置70,例如也可以仅有一个摄像装置70。[0084]在本实施例中，摄像支架60包含有两支脚61、两连接座62及一横架63;两支脚61间隔地设于底座10上;两连接座62能上下移动地分别套设于两支脚61上，各连接座62上贯穿设有一螺丝621紧抵于支脚61上以选择性地固定连接座62与支脚61的相对位置;横架63的两端分别穿设于该两连接座62,其中一连接座62上贯穿设有一螺丝622紧抵于横架63的端部以选择性地固定横架63及支脚61的相对角度;而设于横架63上的摄像装置70藉此可调整高度位置及俯仰角度。[0085]此外，该等摄像装置70能横向移动地设于摄像支架60上，具体来说，横架63上设有一长孔631，该等摄像装置70通过螺丝锁合固定于该长孔631上，并藉此可调整摄像装置70于摄像支架60上的横向位置;但摄像支架60的结构不以此为限，甚至也可没有摄像支架60而直接让摄像装置70设于底座10上。[0086]在本实施例中，摄像装置70为电荷親合器件Charge-coupledDevice，CCD或互补金属氧化物半导体ComplementaryMetal-〇xide_Semiconductor，CMOS，但不以此为限，也可为其他种类的摄像装置70。[0087]请参阅图1及图2所示，外罩80设于底座10上，且套设包覆于工件支架20、转动装置30、光源支架40、单色光源照射装置50、摄像支架60及摄像装置70外，外罩80的内壁面为不反射的黑色壁面，藉以提供较佳的摄像环境，在本实施例中，外罩80的相对两侧分别设有一门板81，但不以此为限。[0088]此外，在其他实施例中，可进一步将位于外罩80内的所有元件的外表面全都涂黑，藉以提供避免光线反射而造成干扰，以提供较佳的摄像环境。[0089]分析装置与该等摄像装置70电连接，并分析该等摄像装置70所拍摄的画面，分析装置从该等画面中识别出有因镜面反射而造成过度曝光的痕迹，并与画面中的工件上的所有痕迹进行比对，确认是否有痕迹没有过度曝光，没有过度曝光的痕迹便为裂纹。[0090]前述的工业视觉探伤系统的第一实施例是用于检测工件100的外表面，请参阅图7至图9所示，本发明的工业视觉探伤系统的第二实施例则是用于检测管状的工件100A的内壁面，工业视觉探伤系统的第二实施例与前述的第一实施例大致相同，但是第二实施例的单色光源照射装置50A及摄像装置70A共同设于一内藏架板90A上，内藏架板90A位于工件支架20A的上方，且穿设于管状的工件100A中；第二实施例具有多个单色光源照射装置50A及多个摄像装置70A，其分别呈直线排列地设于内藏架板90A上，藉以检测管状的工件100A的内壁面。[0091]此外，在本实施例中，内藏架板90A为一体成型的长条型板体，但不以此为限，也可为两板体从工件100A两端插入后对接而成。[0092]请参阅图10所示，本发明的工业视觉探伤方法包含以下步骤：[0093]准备步骤S1:准备一工件1〇〇、一单色光源照射装置50及一摄像装置70,并使单色光源照射装置50及摄像装置70朝向工件1〇〇;[0094]准备步骤可以准备本发明的工业视觉探伤系统的两个实施例的其中之一，但不以此为限，具体来说仅要具有单色光源照射装置5〇及摄像装置70,并可使单色光源照射装置50及摄像装置70与工件100相对转动即可。[0095]另外，在此步骤中，工件100可为各种形状而不以图式中的圆管状为限，使用其他形状、空心或实心的工件1〇〇均不影响本方法的实施。[0096]录像步骤S2:接着使单色光源照射装置5〇及摄像装置7〇与工件100相对转动，同时单色光源照射装置50以一单色光照射工件100,且摄像装置70对工件100进行录像。[0097]在此步骤中，单色光照射于工件100时，请参阅图13及图I7所示，由于裂纹相对窄且深，因此单色光射进裂纹之后不易反射出来，因此不会有明显的反光;请参阅图11、图14及图1S所示，但是外伤造成的痕迹相对较浅且宽，故单色光射进后便会镜面反射地反射而出入射角等于出射角），而在持续相对转动的过程中，当反射光平行射入摄像装置70时，会因角度正对而能量集中，造成镜面反射而过度曝光而形成显目的白色，因此转动过程中会有明显的反光，如此的高亮度白光，其RGB值会等于或接近（255，255，255;请参阅图12所示，其横轴为转动角度，纵轴为摄像装置70感应到的亮度大小，从此图式可看出，当工件100转动到一定角度时，能量会大幅提升而到达一高峰，并且之后再降下来；由于外伤造成的痕迹可能会形成一个或多个反射面，因此在图式中的峰值可能会有一个或多个。[0098]此外，从亮度判断是否为镜面反射而造成的过度曝光时，可从亮度的峰值或斜率等因素来判断，例如在本实施例中，是当亮度高于一临界值时，判断为过度曝光，而该临界值在本实施例中可为50如图12所示）；此外具体的判断方式也可由人工智能通过大量反复操作来学习或改进。[0099]此外，由于摄像装置70的摄像范围可高达工件100的半个侧面，但仍会使相对转动角度达到360度，以确保摄像装置70可从各种角度拍摄工件100外观上的痕迹;但不以此为限，有其他需求时，也可让提高或降低相对转动的角度。[0100]再者，使单色光源照射装置50及摄像装置70与工件100相对转动时，可通过抵靠轮34的转动角度来判断或换算整体的相对转动角度例如工件100的转动角度），或者是，也可另外设置一装置来测量整体的相对转动角度。[0101]辨别步骤S3:以一分析装置从摄像装置70所拍摄的画面中进行识别，工件100表面上所有痕迹在相对转动的过程中会产生亮度变化，从该等痕迹中识别出因镜面反射而造成过度曝光的痕迹并记录下来，之后将工件100的所有痕迹与有过度曝光的痕迹进行比对，有过度曝光的痕迹为外伤碰撞造成的痕迹，若有无过度曝光的痕迹，则其便为裂纹，工业视觉探伤方法到此结束;工件100的所有痕迹，可以预先纪录，或是于辨别步骤S3时以另一摄像装置70同时记录，或者是待识别完有过度曝光的痕迹后再另行纪录均可;此外，工件100的所有痕迹可通过肉眼观察或以摄像装置70录像纪录均可。[0102]在辨别步骤中，将工件100的所有痕迹与有过度曝光的痕迹的比对作业，可由人工来比对，或是由机器来比对，而由机器来比对时，便可达到自动化的目的而能迅速的执行所有步骤以大幅提尚整体效率。[0103]本发明通过入射角度变化而产生镜面反射以平行射入摄像装置70造成过度曝光的原理来辨别热处理形成的裂纹及外伤造成的伤痕，而仅需使用单色光源照射装置50及摄像装置70便可达成，因此不会对环境或人体造成伤害，此外单色光源照射装置50及摄像装置70可设于管状工件100的通道中，因此更可用于检测管状工件100的内壁面。[0104]以上所述仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用于限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

权利要求：1.一种工业视觉探伤系统，其特征在于，包含：一底座；一工件支架，其设于该底座上，且用于放置待检测的工件；至少一个单色光源照射装置，其设于该底座上，且朝向该工件支架；至少一个摄像装置，其设于该底座上，且朝向该工件支架；转动装置，其设于该底座上，且使该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置能与该工件支架上的该工件相对转动；一分析装置，其与该至少一个摄像装置电连接，并分析该至少一个摄像装置所拍摄的画面，该分析装置从该画面中识别因镜面反射而造成过度曝光的痕迹。2.根据权利要求1所述的工业视觉探伤系统，其中该转动装置用于转动该工件支架上的该工件，该工件支架包含两第一滚轮座及两第二滚轮座，该第一滚轮座及该第二滚轮座间隔设置;各该第一滚轮座上枢设有一滚轮，该两第一滚轮座上的该滚轮分别抵靠该工件的两侧;各该第二滚轮座上枢设有一滚轮，该两第二滚轮座上的该滚轮分别抵靠该工件的两侧。3.根据权利要求2所述的工业视觉探伤系统，其中该工件支架进一步包含两滚轮座轨道，该两第一滚轮座能移动地设于其中一该滚轮座轨道上，该两第二滚轮座能移动地设于另一该滚轮座轨道上。4.根据权利要求3所述的工业视觉探伤系统，其中该工件支架进一步包含两底座轨道，该底座轨道的延伸方向与该滚轮座轨道的延伸方向垂直，各该滚轮座轨道能移动地跨设于该两底座轨道上。5.根据权利要求1至4中任一项所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一光源支架，其设于该底座上，且该至少一单色光源照射装置能上下移动且能调整俯仰角度地设于该光源支架上。6.根据权利要求1至4中任一项所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一摄像支架，其设于该底座上，且该至少一摄像装置能上下移动且能调整俯仰角度地设于该摄像支架上。7.根据权利要求6所述的工业视觉探伤系统，其中该至少一摄像装置能横向移动地设于该摄像支架上。8.根据权利要求1至4中任一项所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一内藏架板，其位于该工件支架的上方，且用于穿设于该工件中，该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置设于该内藏架板上。9.根据权利要求8所述的工业视觉探伤系统，其中该转动装置用于转动该工件支架上的该工件，该转动装置包含马达及一抵靠轮；该马达设于该底座上；该抵靠轮与该马达连接，且被该马达转动，该抵靠轮用于抵靠于该工件支架上的该工件。10.根据权利要求9所述的工业视觉探伤系统，其中该转动装置进一步包含滑座及主架体;该滑座设于该底座上;该主架体能移动地设于该滑座上；该马达及该抵靠轮设于该主架体上。11.根据权利要求1至4中任一项所述的工业视觉探伤系统，其进一步包含一外罩，其设于该底座上，且套设包覆于该工件支架、该至少一单色光源照射装置及该至少一摄像装置夕卜，该外罩的内壁面为不反射的黑色壁面。12.—种工业视觉探伤方法，其包含以下步骤：准备步骤:准备一工件、一单色光源照射装置及一摄像装置，并使该单色光源昭射装置及该摄像装置朝向该工件；录像步骤:使该单色光源照射装置及该摄像装置与该工件相对转动，同时该单色光源照射装置以一单色光照射该工件，且该摄像装置对该工件进行录像；辨别步骤：以一分析装置从该摄像装置所拍摄的画面中，识别出因镜面反射而造成过度曝光的痕迹并记录下来，之后将该工件的所有痕迹与有过度曝光的痕迹进行比对，若有痕迹没有过度曝光，则该没有过度曝光的痕迹即为裂纹。

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