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【发明公布】离子源供气结构及离子源装置_中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司_202010681782.5 

申请/专利权人:中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司

申请日:2020-07-15

公开(公告)日:2020-10-16

公开(公告)号:CN111785600A

主分类号:H01J27/14(20060101)

分类号:H01J27/14(20060101);H01J27/02(20060101)

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.11.03#实质审查的生效;2020.10.16#公开

摘要:本申请涉及一种离子源供气结构及离子源装置,包括:设置在阳极部件周围的气流回路,以及设于所述阳极部件上且与所述气流回路连通的出气口;其中,所述出气口沿所述阳极部件的中部分布;所述气流回路接入外部的工艺气体,将所述工艺气体输送至各个所述出气口,并通过所述出气口从阳极部件中部导出。该技术方案,将工艺气体输送至各个所述出气口并从阳极部件中部导出,使得工艺气体在电离腔中能够得到更加充分的反应,提高了离子源的电离效率,而且避免了工艺气体沉积,减少对磁铁上部的保护器件的腐蚀。

主权项:1.一种离子源供气结构,其特征在于,包括:设置在阳极部件周围的气流回路,以及设于所述阳极部件上且与所述气流回路连通的出气口;其中,所述出气口沿所述阳极部件的中部分布;所述气流回路接入外部的工艺气体,将所述工艺气体输送至各个所述出气口,并通过所述出气口从阳极部件中部导出。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司 离子源供气结构及离子源装置

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