申请/专利权人：江西沃格光电股份有限公司

申请日：2020-01-15

公开（公告）日：2020-10-16

公开（公告）号：CN211698584U

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.10.16#授权

摘要：本实用新型涉及一种曝光平台和系统，所述曝光平台应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：载物台和降温通道，载物台用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时通入冷却水对所述载物台进行降温处理。本申请通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果的同时保证了成品率。

主权项：1.一种曝光平台，其特征在于，应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：载物台，用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时，通入冷却水对所述载物台进行降温处理。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江西沃格光电股份有限公司 曝光平台和系统

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD