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【发明公布】全息光栅及其曝光方法、设备、介质_甬江实验室_202310482674.9 

申请/专利权人:甬江实验室

申请日:2023-04-27

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117872520A

主分类号:G02B5/18

分类号:G02B5/18;G02B5/32;G03F7/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本申请涉及一种全息光栅及其曝光方法、设备、介质,包括:根据全息光栅的当前曝光周期确定第一空间光调制器和第二空间光调制器的照射夹角;控制第一空间光调制器依次在全息光栅的多个第一光强分布区域产生相同光强的物光,同时控制第二空间光调制器依次在全息光栅的多个第二光强分布区域产生相同光强的参考光,得到满足预设衍射效率分布条件的全息光栅。由此,解决解决相关技术中全息光栅雾度大、光栅矢量一致性差、光栅衍射效率不均匀、及光波导性能差等问题。

主权项:1.一种全息光栅的曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:确定全息光栅的当前曝光周期;根据所述当前曝光周期确定第一空间光调制器和第二空间光调制器的照射夹角;以及基于所述照射夹角,控制所述第一空间光调制器依次在所述全息光栅的多个第一光强分布区域产生相同光强的物光,同时控制所述第二空间光调制器依次在所述全息光栅的多个第二光强分布区域产生相同光强的参考光,以得到满足预设衍射效率分布条件的全息光栅。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 甬江实验室 全息光栅及其曝光方法、设备、介质

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