申请/专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司

申请日：2021-01-19

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN112835269B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2021.11.16#实质审查的生效;2021.05.25#公开

摘要：本发明公开了一种光刻装置，包括对应分设于测量工位和曝光工位下方的两个短程台，所述两个短程台分别设于长程台的两端；通过所述长程台的水平旋转，实现两个短程台在所述测量工位和曝光工位之间的位置交换；所述长程台上固定非接触式电容传感器的一端，所述非接触式电容传感器的另一端分别固定在所述短程台上；根据非接触式电容传感器的电容值变化信息对短程台进行位置调整，确保旋转之后的短程台与长程台之间没有发生偏移。本发明中光刻装置可以确保旋转之后的短程台相对长程台的位置无偏差。

主权项：1.一种光刻装置，其特征在于，包括对应分设于测量工位和曝光工位下方的两个短程台，所述两个短程台分别设于长程台的两端；通过所述长程台的水平旋转，实现两个短程台在所述测量工位和曝光工位之间的位置交换；所述长程台上固定非接触式电容传感器的一端，所述非接触式电容传感器的另一端分别固定在所述短程台上；其中，所述非接触式电容传感器包括第一支架，所述第一支架包括第一磁铁、第一U型弹簧片、绝缘介质层、电容器和夹板；以及固定在与第一支架相对的短程台上的第二磁铁，所述第一磁铁与第二磁铁相对设置，短程台与第二磁铁一起移动，所述第一磁铁通过连线连接第一U型弹簧片，所述第一U型弹簧片靠近第一磁铁的一端固定连接绝缘介质层，所述第一支架固定在所述长程台上，所述第二磁铁的其中一个端面与所述第一支架相对设置，所述电容器包括正极板和负极板，当所述短程台相对于长程台移动时，所述第一磁铁和第二磁铁之间的作用力发生变化，从而使得相邻正极板和负极板之间被绝缘介质层覆盖的面积发生变化，根据电容值变化信息对短程台进行位置调整，确保旋转之后的短程台与长程台之间没有发生偏移。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 一种光刻装置及曝光方法

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