申请/专利权人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日:2020-08-07
公开(公告)日:2020-11-24
公开(公告)号:CN111983859A
主分类号:G02F1/1362(20060101)
分类号:G02F1/1362(20060101)
优先权:
专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回
法律状态:2022.12.02#发明专利申请公布后的驳回;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开
摘要:本发明公开了一种阵列基板及其制备方法,所述阵列基板包括基板以及若干功能层,所述功能层中具有至少两层导电走线,至少两层导电走线具有断线区和位于所述断线区两侧的走线区;至少一桥接线,桥接在每一断线区两侧的走线区上。本发明的技术效果在于,大大提高了导电走线的修补成功率。
主权项:1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板;以及若干功能层,设于所述基板上,所述功能层中具有至少两层导电走线,至少两层导电走线具有断线区和位于所述断线区两侧的走线区;至少一桥接线,桥接在每一断线区两侧的走线区上。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制备方法
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