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【发明公布】相位差校正方法、装置、设备及介质_中国电子科技集团公司第二十九研究所_202210721333.8 

申请/专利权人:中国电子科技集团公司第二十九研究所

申请日:2022-06-24

公开(公告)日:2022-09-20

公开(公告)号:CN115079083A

主分类号:G01S3/02

分类号:G01S3/02;G01S3/14;G01S3/78

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开

摘要:本发明公开了相位差校正方法、装置、设备及介质,应用于干涉仪测向,所述方法包括:响应于获取到的校正数据,筛选出无效校正数据,剩余校正数据为有效校正数据;对鉴相器输出的相位差过零点处理后计算相邻点的相位差差值和真实相位差;计算采样点的线性相关度,并判断所述线性相关度是否有效;根据所述有效校正数据,通过线性回归计算出线性参数,再根据所述线性参数恢复任意频率的相位差。本发明针对相位干涉仪测向系统中校正数据处理流程进行了设计,通过筛选无效校正数据,进一步完成相位差数据变换、线性相关系数计算和相位差数据重建。

主权项:1.一种相位差校正方法,其特征在于,应用于干涉仪测向,所述方法包括:响应于获取到的校正数据,筛选出无效校正数据,剩余校正数据为有效校正数据;对鉴相器输出的相位差过零点处理后计算相邻点的相位差差值和真实相位差;计算采样点的线性相关度,并判断所述线性相关度是否有效;根据所述有效校正数据,通过线性回归计算出线性参数,再根据所述线性参数恢复任意频率的相位差。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国电子科技集团公司第二十九研究所 相位差校正方法、装置、设备及介质

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