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【发明公布】一种缓解绕镀的镀膜工艺_浙江合特光电有限公司_202310148018.5 

申请/专利权人:浙江合特光电有限公司

申请日:2023-02-09

公开(公告)日:2023-05-23

公开(公告)号:CN116145117A

主分类号:C23C16/50

分类号:C23C16/50;C23C16/04;C23C16/24

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.06.09#实质审查的生效;2023.05.23#公开

摘要:本申请涉及一种缓解绕镀的镀膜工艺,包括如下步骤:S1:底面覆盖,在衬板背离需镀设镀膜一侧进行遮挡覆盖;S2:侧面覆盖,在衬板周向进行遮挡覆盖;S3:进行镀膜,将底面和侧面遮挡覆盖的衬板放入等离子体化学气相沉积设备内进行镀膜。本申请具有降低饶镀现象对太阳能电池影响的效果。

主权项:1.一种缓解绕镀的镀膜工艺,包括如下步骤:S1:底面覆盖,在衬板(1)背离需镀设镀膜一侧进行遮挡覆盖;S2:侧面覆盖,在衬板(1)周向进行遮挡覆盖;S3:进行镀膜,将底面和侧面遮挡覆盖的衬板(1)放入等离子体化学气相沉积设备内进行镀膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江合特光电有限公司 一种缓解绕镀的镀膜工艺

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