申请/专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所

申请日：2023-10-25

公开（公告）日：2024-01-19

公开（公告）号：CN117418213A

主分类号：C23C16/44

分类号：C23C16/44;C23C16/52

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.02.06#实质审查的生效;2024.01.19#公开

摘要：本发明公开一种立式LPCVD反应设备，包括：反应室、水冷法兰和炉门；水冷法兰的上部与反应室密封连接，水冷法兰的下部与炉门密封连接；水冷法兰上设有控温系统，控温系统包括主控制器，以及与主控制器连接的热偶和水温控制器；水温控制器将厂务冷却水加热至预设温度后再输送至水冷法兰的环形流道内，以实现水冷法兰外周，以及水冷法兰与反应室和炉门的连接处均进行冷却降温，环形流道中排出的冷却水流经水温控制器后再排出；热偶设置在水冷法兰的环形流道上，以监测环形流道内的冷却水温度，并将温度数据传递至主控制器，主控制器根据热偶反馈的温度信息，向水温控制器发出水温控制指令。本发明具有结构紧凑、冷却均匀性高且控制精准等优点。

主权项：1.一种立式LPCVD反应设备，其特征在于，包括：反应室1、水冷法兰2和炉门3；所述水冷法兰2的上部与反应室1密封连接，水冷法兰2的下部与炉门3密封连接；所述水冷法兰2上设有控温系统，所述控温系统包括主控制器13，以及与主控制器13连接的热偶和水温控制器11；所述水温控制器11用于将厂务冷却水加热至预设温度后再输送至水冷法兰2的环形流道内，以实现水冷法兰2外周，以及水冷法兰2与反应室1和炉门3的连接处均进行冷却降温，且环形流道中排出的冷却水流经水温控制器11后再排出；所述热偶设置在水冷法兰2的环形流道上，用于监测环形流道内的冷却水温度，并将温度数据传递至主控制器13，所述主控制器13根据热偶反馈的温度信息，向水温控制器11发出水温控制指令。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种立式LPCVD反应设备

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