申请/专利权人：中国科学院金属研究所

申请日：2023-10-30

公开（公告）日：2024-02-13

公开（公告）号：CN117554145A

主分类号：G01N1/32

分类号：G01N1/32;G01N1/28;G01N1/42;G01N23/20008;G01N23/203;G01N23/2202;G01N23/2251

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.01#实质审查的生效;2024.02.13#公开

摘要：本发明提供了一种用于制备高质量钨合金SEM及EBSD样品的电解抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：一、对钨基合金样品进行初步打磨及机械抛光处理。二、配置特定电解抛光溶液：所用电解抛光溶液组成为：30gKOH及1LH2O组成的碱溶液，其中KOH质量在±2g范围内。三、在烧杯中加入液氮后对钨基合金样品进行电解抛光实验，选择对样品进行SEM或EBSD观察。本发明优点：电解抛光液成分简单，成本极低，且在配置及使用过程中没有任何危险，实验过程中也不会产生任何有害气体或其它产物，绿色环保，对设备要求极低。可以有效改善钨基合金样品表面质量，抛光效率高，成功率高，所得样品质量稳定。极大节约了实验成本和实验时间。

主权项：1.一种用于制备高质量钨合金SEM及EBSD样品的电解抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：一、对钨基合金样品进行初步打磨及机械抛光处理；二、配置特定电解抛光溶液：所用电解抛光溶液组成为：30gKOH及1LH2O组成的碱溶液，其中KOH质量在±2g范围内；三、在烧杯中加入液氮后对钨基合金样品进行电解抛光实验，选择对样品进行SEM或EBSD观察。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院金属研究所 一种用于制备高质量钨合金SEM及EBSD样品的电解抛光方法

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