申请/专利权人：欧若拉运营公司

申请日：2022-11-18

公开（公告）日：2024-03-05

公开（公告）号：CN117651881A

主分类号：G01S7/481

分类号：G01S7/481;G02B6/12;G02B6/136;G01S17/931

优先权：["20211124 US 17/535,024","20211124 US 17/535,013"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.05#公开

摘要：一种用于LIDAR的硅光子设备的结构包括第一绝缘结构和第二绝缘结构，该第一绝缘结构和该第二绝缘结构设置在覆盖衬底构件的一个或多个蚀刻硅结构上方。金属层设置在第一绝缘结构上方，而没有预先沉积扩散屏障和粘附层。薄绝缘结构设置在第二绝缘结构上方。金属层、第一绝缘结构和所述一个或多个蚀刻硅结构的第一构造形成自由空间耦合器。第二绝缘结构上方的薄绝缘结构的第二构造形成边缘耦合器。

主权项：1.一种用于制造硅光子设备的方法，所述方法包括：获得衬底构件，并且在所述衬底构件上形成硅结构；在所述硅结构上方形成第一介电结构和第二介电结构；在所述第一介电结构和所述第二介电结构上方设置第一氧化物层；在所述第一氧化物层和所述第二介电结构上方形成第三介电结构；在所述第一氧化物层和所述第一介电结构上方形成金属层；以及在所述金属层上方形成扩散屏障和粘附层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 欧若拉运营公司 用于LIDAR传感器的硅光子设备及制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD