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【发明授权】一种依次断开导体和熔体的激励熔断器_西安中熔电气股份有限公司_202110702549.5 

申请/专利权人:西安中熔电气股份有限公司

申请日:2021-06-24

公开(公告)日:2024-03-08

公开(公告)号:CN113205984B

主分类号:H01H85/05

分类号:H01H85/05;H01H85/055;H01H85/38;H01H85/175;H01H85/00;H01H71/12

优先权:["20201211 CN 2020114586907"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.08#授权;2021.08.20#实质审查的生效;2021.08.03#公开

摘要:一种依次断开导体和熔体的激励熔断器,包括壳体及壳体中的空腔;在壳体及空腔中穿设有至少一根导体,所述导体两端可与外部电路连接;在所述导体上并联设置有至少一根熔体;在所述导体一侧的空腔中安装有激励装置和打断装置;所述激励装置可接收外部激励信号动作,驱动所述打断装置依次在所述导体和所述熔体上分别形成至少一个断口;所述导体上至少一个断口与所述熔体并联。本发明的熔断器,可依次延时断开导体和熔体,拓宽了分断电流范围,提高了分断能力和灭弧能力。

主权项:1.一种依次断开导体和熔体的激励熔断器,包括壳体及壳体中的空腔;其特征在于在壳体及空腔中穿设有至少一根导体,所述导体两端与外部电路连接;在所述导体上并联设置有至少一根熔体;在所述导体一侧的空腔中安装有激励装置和打断装置;所述激励装置被配置为接收外部激励信号动作,驱动所述打断装置依次在所述导体和所述熔体上分别形成至少一个断口;所述导体上至少一个断口与所述熔体并联;在所述壳体上设置有封闭的填充有灭弧介质的灭弧腔室;所述熔体部分或全部位于灭弧介质中;在位于壳体内所述熔体上设置有至少一组施力组件,所述施力组件在所述打断装置驱动下断开熔体形成断口;所述施力组件包括至少一根推杆和至少一根导引杆,所述推杆和所述导引杆周围填充有所述灭弧介质,所述熔体位于所述推杆和所述导引杆之间;所述推杆一端穿过并伸出所述灭弧腔室;所述导引杆一端位移进入所述灭弧腔室中的预留位移空间或伸出所述灭弧腔室;所述推杆和所述导引杆与所述灭弧腔室壁间设置防止灭弧介质泄露的阻挡结构;当打断装置断开所述导体后其驱动所述推杆及导引杆以直线方式位移断开所述熔体,断开后的两段所述熔体分别为阴极和阳极,所述阴极和所述阳极之间为电弧路径,所述阴极和或所述阳极仍处于所述灭弧介质中,部分或者全部的电弧路径处于所述灭弧介质中。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安中熔电气股份有限公司 一种依次断开导体和熔体的激励熔断器

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