申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2022-06-30

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117715729A

主分类号：B24B49/00

分类号：B24B49/00;H01L21/67;B24B57/02;B24B47/12

优先权：["20210706 US 63/218,902"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要：一种化学机械抛光设备包括：平台；抛光垫，所述抛光垫被支撑在平台上；承载头，所述承载头用于抵靠抛光垫固持基板表面；电机，所述电机用于在平台与承载头之间产生相对运动，以便抛光基板上的上覆层；原位声学监测系统，所述原位声学监测系统包含从基板表面接收声学信号的声学传感器；以及控制器，所述控制器配置成基于来自原位声学监测系统的信号来检测基板上的形貌的平坦化。

主权项：1.一种化学机械抛光设备，包含：平台；抛光垫，抛光垫被支撑在所述平台上；承载头，所述承载头用于抵靠所述抛光垫固持基板的表面；电机，所述电机用于在所述平台与所述承载头之间产生相对运动，以便抛光所述基板上的上覆层；原位声学监测系统，所述原位声学监测系统包含从所述基板的所述表面接收声学信号的声学传感器；以及控制器，所述控制器配置成基于来自所述原位声学监测系统的信号来检测所述基板上的形貌的平坦化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 在化学机械抛光期间根据声学信号检测平坦化

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