申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2020-09-04

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN112445082B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20190904 JP 2019-161464"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2021.09.24#实质审查的生效;2021.03.05#公开

摘要：提供对投影光学系统中的凹面镜的小型化有利的曝光装置以及物品制造方法。提供一边对掩模及基板进行扫描一边对所述基板进行曝光的曝光装置。所述曝光装置具有将所述掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统。所述投影光学系统构成为包括第1凹面镜、凸面镜以及第2凹面镜，透过所述掩模的图案的光按照所述第1凹面镜、所述凸面镜以及所述第2凹面镜的顺序反射。在将利用来自所述掩模上的圆弧状的照明区域的所有物点的光束在所述第1凹面镜或所述第2凹面镜上形成的有效区域和与所述投影光学系统的光轴正交且在与所述基板平行的方向上延伸的直线的最小接近距离设为D、将形成于所述基板上的所述圆弧的最外周半径设为Ru时，满足0D0.1·RU的条件。

主权项：1.一种曝光装置，一边对掩模及基板进行扫描一边对所述基板进行曝光，该曝光装置的特征在于，具有将所述掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，所述投影光学系统构成为包括第1凹面镜、凸面镜以及第2凹面镜，透过所述掩模的图案的光按照所述第1凹面镜、所述凸面镜以及所述第2凹面镜的顺序反射，在将利用来自所述掩模上的圆弧状的照明区域的所有物点的光束在所述第1凹面镜或所述第2凹面镜上形成的有效区域和与所述投影光学系统的光轴正交且在与所述基板平行的方向上延伸的直线的最小距离设为D、将形成于所述基板上的所述圆弧的最外周半径设为Ru时，满足0D0.1·Ru的条件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 曝光装置以及物品制造方法

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