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【发明授权】化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途_中国科学院新疆理化技术研究所_202210472500.X 

申请/专利权人:中国科学院新疆理化技术研究所

申请日:2022-04-29

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN114920257B

主分类号:C01B35/12

分类号:C01B35/12;C30B7/04;C30B7/10;C30B7/14;C30B28/04;C30B29/10;G02F1/355

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.19#授权;2022.09.06#实质审查的生效;2022.08.19#公开

摘要:本发明涉及一种化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途,该化合物的分子式为Cs[BOH3][B3O3OH3]Cl,分子量为361.65,采用温和的溶剂蒸发法制成,该晶体化学式为Cs[BOH3][B3O3OH3]Cl,分子量为361.65,属于单斜晶系,空间群是P21c,晶胞参数a=8.39173Å,b=11.99934Å,c=12.78154Å,β=127.8562,V=1016.186Å3,Z=4。其紫外透过截止边为180nm,双折射率约为0.123(532nm)。采用温和的室温溶液法或水热法生长晶体,通过本发明所述方法获得的六羟基氯四硼酸铯双折射晶体机械硬度适中,易于生长、切割、抛光加工和保存;具有较大的双折射率;在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作偏振分束棱镜,相位延迟器件和电光调制器件等。

主权项:1.一种化合物六羟基氯四硼酸铯,其特征在于该化合物的分子式为Cs[BOH3][B3O3OH3]Cl,分子量为361.65,采用温和的溶剂蒸发法制成。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院新疆理化技术研究所 化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途

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