申请/专利权人：郑州大学;中原关键金属实验室

申请日：2024-01-15

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN117819967A

主分类号：C04B35/495

分类号：C04B35/495;C23C14/35;C23C14/08;C04B35/622

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要：本发明公开了一种用于制备近红外光屏蔽薄膜的铯钨青铜陶瓷靶材及其制备方法。该制备方法包括：称取设定量的铯钨青铜粉体；在热压模具中铺展一层石墨纸或喷涂一层氮化硼喷剂，然后再铺展一层防污染材料；将铯钨青铜粉体放入热压模具中压实，并对热压模具进行封口，放入热压烧结炉中预压制铯钨青铜粉体；调节参数，对铯钨青铜粉体进行热压烧结，得到铯钨青铜烧结坯体；将得到的铯钨青铜烧结坯体进行机加工处理，得到铯钨青铜陶瓷靶材。制备得到的铯钨青铜陶瓷靶材微观组织均匀、晶粒细小、致密度大于98％，成分均匀、纯度大于99.9％、满足后续磁控溅射镀膜的要求，成本低，磁控溅射得到的铯钨青铜薄膜近红外光屏蔽效果好，可见光透过率高，使用寿命长。

主权项：1.用于制备近红外光屏蔽薄膜的铯钨青铜陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，包括：称取设定量的铯钨青铜粉体；在热压模具中铺展一层石墨纸或喷涂一层氮化硼喷剂，然后再铺展一层防污染材料，用于防止碳从模具或石墨纸中渗透进铯钨青铜粉体内部；将铯钨青铜粉体放入热压模具中压实，并对热压模具进行封口；将热压模具放入热压烧结炉中，对热压模具中的铯钨青铜粉体进行预压制；调节热压烧结炉的热压烧结参数，对热压模具中的铯钨青铜粉体进行热压烧结，得到铯钨青铜烧结坯体；将得到的铯钨青铜烧结坯体进行机加工处理，得到所述铯钨青铜陶瓷靶材。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 郑州大学;中原关键金属实验室 用于制备近红外光屏蔽薄膜的铯钨青铜陶瓷靶材及其制备方法

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