申请/专利权人：信利光电股份有限公司

申请日：2023-08-11

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN220627033U

主分类号：G06F3/041

分类号：G06F3/041

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权

摘要：本实用新型公开了一种提高假压良率的膜层堆叠结构，包括：基材层以及设置于所述基材层上的触控导电层，所述触控导电层包括依次堆叠设置的BM层、ITO1层、第一绝缘层、ITO2层以及第二绝缘层，所述第二绝缘层的上方设置有用于保护所述ITO1层和所述ITO2层的保护层，所述保护层覆盖于所述第二绝缘层、所述ITO2层的表面。该膜层堆叠结构具有对IM层其下覆盖的膜层进行保护，以避免脏污影响电测容值，提高了产品的安全性的效果。

主权项：1.一种提高假压良率的膜层堆叠结构，其特征在于，包括：基材层10以及设置于所述基材层10上的触控导电层，所述触控导电层包括依次堆叠设置的BM层20、ITO1层30、第一绝缘层40、ITO2层50以及第二绝缘层60，所述第二绝缘层60的上方设置有用于保护所述ITO1层30和所述ITO2层50的保护层，所述保护层覆盖于所述第二绝缘层60、所述ITO2层50的表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信利光电股份有限公司 一种提高假压良率的膜层堆叠结构

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD