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【发明公布】镀膜设备_拉普拉斯(西安)科技有限责任公司_202311781200.0 

申请/专利权人:拉普拉斯(西安)科技有限责任公司

申请日:2023-12-21

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117737712A

主分类号:C23C16/54

分类号:C23C16/54

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本申请提供一种镀膜设备,镀膜设备包括设备主体、载板、至少一个第一镀膜组件和至少一个第二镀膜组件。设备主体设有腔体。载板包括相对沿第一方向分布的第一侧和第二侧,被配置为承载工件沿第二方向传送工件、以及露出工件两侧的第一面和第二面。第一镀膜组件包括位于载板第一侧且相邻排布的第一阴极组件和第一分子泵,第一阴极组件被配置为对第一面镀膜。第一镀膜组件和第二镀膜组件相对设置,第二镀膜组件包括位于载板的第二侧且相邻排布的第二阴极组件和第二分子泵,第二阴极组件被配置为对第二面镀膜。上述镀膜设备实现同步对工件两侧的第一面和第二面镀膜,且排放腔体内因镀膜产生的颗粒和废气等,以实现在同一腔体内对工件的相对两侧镀膜。

主权项:1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:设备主体,设有腔体;载板,包括沿第一方向相对分布的第一侧和第二侧,且被配置为承载工件和沿第二方向传送所述工件、以及露出所述工件两侧的第一面和第二面,所述第一方向和所述第二方向垂直;第一镀膜组件,包括位于所述载板的第一侧且相邻排布的第一阴极组件和第一分子泵,所述第一阴极组件被配置为对所述第一面镀膜;第二镀膜组件,每个所述第一镀膜组件和一个所述第二镀膜组件沿所述第一方向相对设置,所述第二镀膜组件包括位于所述载板的第二侧且相邻排布的第二阴极组件和第二分子泵,所述第二阴极组件被配置为对所述第二面镀膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 拉普拉斯(西安)科技有限责任公司 镀膜设备

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