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【发明公布】应用于存算一体电路的10晶体管SRAM存储单元结构_上海华力集成电路制造有限公司_202410010886.1 

申请/专利权人:上海华力集成电路制造有限公司

申请日:2024-01-04

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117789787A

主分类号:G11C11/412

分类号:G11C11/412;G11C11/419

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要:本发明提供一种应用于存算一体电路的10晶体管SRAM存储单元结构,包括:4个PMOS晶体管M1、M2、M5、M6和6个NMOS晶体管M3、M4、M7、M8、M9、M10;M5、M6的源极连接存储单元工作电源,M5、M6的漏极分别连接M3、M4的漏极;M5的栅极连接M3的栅极形成第一存储节点N1,M6的栅极连接M4的栅极形成第二存储节点N2;M3、M4的源极连接地线;M1的源极连接信号BL_W,漏极连接第一存储节点N1,栅极连接信号WL_W;M2的源极连接信号BLB_W,漏极连接第二存储节点N2,栅极连接信号WL_W;M7的源极连接地线,栅极连接第一存储节点N1,漏极连接M8的源极。相对于现有技术中的双6晶体管双字线SRAM存储单元的结构,本发明的10晶体管三字线SRAM存储单元,在同等功能下可节约20%的面积。

主权项:1.一种应用于存算一体电路的10晶体管SRAM存储单元结构,其特征在于,包括:4个PMOS晶体管M1、M2、M5、M6和6个NMOS晶体管M3、M4、M7、M8、M9、M10;其中,其中M3、M4、M7、M9为下拉管,M5、M6为上升管,M1、和M2为传输管,M8和M10为选通管;M5、M6的源极连接存储单元工作电源,M5、M6的漏极分别连接M3、M4的漏极;M5的栅极连接M3的栅极形成第一存储节点N1,M6的栅极连接M4的栅极形成第二存储节点N2;M3、M4的源极连接地线;M1的源极连接信号BL_W,漏极连接第一存储节点N1,栅极连接信号WL_W;M2的源极连接信号BLB_W,漏极连接第二存储节点N2,栅极连接信号WL_W;M7的源极连接地线,栅极连接第一存储节点N1,漏极连接M8的源极;M8的漏极连接信号BLB_R,栅极连接信号WLB_R;M9的源极连接地线,栅极连接第二存储节点N2,漏极连接M10的源极;M10的漏极连接信号BL_R,栅极连接信号WLA_R;其中,M1至M6组成6晶体管SRAM结构,其由信号WL_W控制;M7、M8与M9、M10作为两个读取端口,分别由信号WLB_R及信号WLA_R控制;在10晶体管SRAM存储单元工作时,两个读取端口的电流存在差异。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海华力集成电路制造有限公司 应用于存算一体电路的10晶体管SRAM存储单元结构

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