申请/专利权人：上海芯刻微材料技术有限责任公司

申请日：2021-10-22

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN116003665B

主分类号：C08F216/14

分类号：C08F216/14;C08F222/20;C09D129/10

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.29#授权;2023.05.12#实质审查的生效;2023.04.25#公开

摘要：本发明公开了一种聚合物及含其的193nm光刻用顶涂层膜的制备方法。该聚合物为由式A所示的单体、式B所示的单体和式L所示的单体聚合得到；含该聚合物的顶涂层膜至少具有以下任一优势：溶解性较好、对于纯水的耐性较高、图案分辨率高。

主权项：1.一种聚合物，其特征在于，所述聚合物的制备方法包括下列步骤：将式A所示的单体、式B所示的单体和式L所示的单体聚合； 其中，所述聚合物的制备方法中，以重量份数计，所述式A所示的单体的重量份数为2-10份；所述聚合物的制备方法中，以重量份数计，所述式B所示的单体的重量份数为1-6份；所述聚合物的制备方法中，以重量份数计，所述式L所示的单体的重量份数为1-4份。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海芯刻微材料技术有限责任公司 一种聚合物及含其的193nm光刻用顶涂层膜的制备方法

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