申请/专利权人：株式会社ORC制作所

申请日：2023-04-14

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117806127A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F9/00

优先权：["20220930 JP 2022-157244"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.02#公开

摘要：本发明提供曝光装置和曝光装置的焦点检测方法。在曝光装置中，维持焦点检测精度并且迅速地进行焦点检测。曝光装置10在工作台12的端部附近具有测定部40，测定部40具有遮光部41和受光部42。遮光部41具有形成有多个透光部50的遮光面41S，遮光面41S相对于与投影光学系统23的光轴C垂直的方向倾斜了倾斜角度θ。在焦点检测时，一边使工作台12移动一边将图案光FP投影于测定部40的遮光面41S，根据从受光部42输出的光量信号而取得成像位置，以及进行焦点调整。

主权项：1.一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：曝光部，其具有投影光学系统，投影图案光；以及测定部，其测定所述曝光部的成像位置，所述测定部具有：遮光部，其形成有多个透光部，该多个透光部的沿着所述投影光学系统的光轴方向的位置互不相同；以及受光部，其接收透过各透光部的光，根据从所述受光部输出的与光量对应的信号而取得所述曝光部的成像位置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社ORC制作所 曝光装置和曝光装置的焦点检测方法

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