申请/专利权人：富士胶片株式会社;国立大学法人东京大学

申请日：2022-07-20

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117813495A

主分类号：G01N27/62

分类号：G01N27/62;G01N1/00;G01N23/2258;G01N27/64;H01J49/10;H01J49/26

优先权：["20210802 JP 2021-126864"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明提供一种标准试样膜或标准试样、标准试样膜的制造方法、试样组、定量分析方法及转印膜，所述标准试样膜或标准试样用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，其含有有机物，且基于测量位置的金属元素的离子的信号强度的偏差小。本发明的标准试样膜用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，所述标准试样膜含有聚合物、金属元素及内部标准，标准试样膜的膜厚的最大高低差为0.50μm以下。

主权项：1.一种标准试样膜，其用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，所述标准试样膜含有聚合物、金属元素及内部标准，所述标准试样膜的膜厚的最大高低差为0.50μm以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 富士胶片株式会社;国立大学法人东京大学 标准试样膜、标准试样膜的制造方法、标准试样、试样组、定量分析方法、转印膜

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