申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所;电子科技大学

申请日：2020-06-03

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN111522197B

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2020.09.04#实质审查的生效;2020.08.11#公开

摘要：本发明提出一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统和方法，该系统用于紫外纳米压印光刻中实现样片与掩模的自动脱模。该系统以掩模架和掩模板为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升，基片与基准掩模板接触调平后，气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构，同时升降驱动机构停止上升。然后在基片的下表面通正压，通过“气压压印+紫外固化”的形式进行图像转移，接着通过承片台上的三个升降气缸实现基片与掩模的自动脱模。

主权项：1.一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统，其特征在于，包括：掩模架（1）、掩模板（2）、承片台（3）、基片（4）、三点弹性支撑机构（5）、锁紧气缸（6）、升降驱动机构（7）、主控制器（8）、控制电路板（9）、正压输入端（10）、负压输入端（11）、电控阀门（12）、限位机构（13）、第一升降气缸（16）、第一密封圈（17）、第一气流通道（18）、第二升降气缸（19）、第二气流通道（20）、第一气嘴（21）、第二气嘴（22）、第三气嘴（23）、第四气嘴（24）、第五气嘴（25）、第六气嘴（26）、真空吸孔（27）、第三升降气缸（28）、第二密封圈（29）、第三密封圈（30）、第三气流通道（31）；所述掩模板（2）位于掩模架（1）下方并固接；所述掩模架（1）下表面有真空槽，用于吸紧掩模（2）；所述承片台（3）设置有真空槽，用于吸附固定基片（4），承片台内部嵌有三个升降气缸，即第一升降气缸，（16）、第二升降气缸（19）、第三升降气缸（28），三个升降气缸既可以同时控制运动，也可以进行分别控制运动；所述承片台（3）上表面分布着3组气流通道，分别是第三气流通道（31）、第二气流通道（20）、第一气流通道（18），所述3组气流通道通负压时吸住基片，通正压时给基片施加均匀的压力；所述三点弹性支撑结构（5）与承片台（3）通过柔性铰链连接，用于基片（4）调平；所述气缸包括第一升降气缸（16）、第二升降气缸（19）、第三升降气缸（28）和锁紧气缸（6），用于基片（4）与掩模（2）的脱模和锁紧三点弹性支撑结构（5）；所述升降驱动机构（7）设置有限位机构（13），用于停止升降驱动机构（7）运动；所述正压输入端（10）经过电控阀门（12）分别与锁紧气缸（6）和第一升降气缸（16）、第二升降气缸（19）、第三升降气缸（28）、承片台（3）连接；所述负压输入端（11）通过电控阀门（12）分别于掩模架（1）和承片台（3）连接；所述驱动控制板（9）分别与电控阀门（12）和主控制器（8）连接。

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