申请/专利权人：CMC材料有限责任公司

申请日：2022-08-25

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117858929A

主分类号：C09G1/02

分类号：C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306

优先权：["20210825 US 63/237,095"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：一种化学机械抛光组合物，其包含以下各者、由以下各者组成或基本上由以下各者组成：液体载剂、分散于所述液体载剂中的阴离子性粒子、阴离子性聚合物或表面活性剂和阳离子性聚合物。

主权项：1.一种化学机械抛光组合物，其包含：液体载剂；分散于所述液体载剂中的阴离子性粒子；阳离子性聚合物；和阴离子性聚合物或阴离子性表面活性剂。

全文数据：

权利要求：

百度查询： CMC材料有限责任公司 包括阴离子性研磨剂的CMP组合物

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