申请/专利权人：朗姆研究公司

申请日：2018-08-23

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN111295731B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32

优先权：["20170831 US 15/693,134"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2020.09.29#实质审查的生效;2020.06.16#公开

摘要：描述了用于增加具有离子的低角分散的峰值离子能量的系统和方法。在所述系统中的一者中，耦合到与等离子体室相关联的上电极的多个射频RF发生器在两种不同状态例如，两种不同频率电平下操作，以使RF发生器的脉冲发生。RF发生器的脉冲发生有利于将一种状态期间的离子能量转移到另一种状态，以在该另一种状态期间增加离子能量，从而进一步提高加工衬底的速度。

主权项：1.一种操作等离子体室以在蚀刻操作期间增加离子能量并减少被导向衬底的表面的离子的角分散的方法，其包含：接收脉冲化信号以驱动所述等离子体室的操作，其中所述脉冲化信号具有两状态，所述两状态包含第一状态与第二状态；在所述第一状态期间在主要频率电平下操作主要射频产生器，以及在所述第二状态期间使所述主要射频产生器维持在关闭状态，其中操作所述主要射频产生器被执行以产生在所述主要频率电平和所述关闭状态之间脉冲化的主要射频信号，其中在所述第一状态期间操作所述主要射频产生器为形成在所述衬底上方的等离子体鞘产生经增加的电荷，其中所述经增加的电荷增加所述等离子体鞘的厚度；在所述第二状态期间在次要频率电平下操作次要射频产生器以及在所述第一状态期间使所述次要射频产生器维持在所述关闭状态，其中操作所述次要射频产生器被执行以产生在所述关闭状态和所述次要频率电平之间脉冲化的次要射频信号，其中当所述主要射频信号具有所述主要频率电平时所述次要射频信号处于所述关闭状态，并且当所述主要射频信号处于所述关闭状态时所述次要射频信号具有所述次要频率电平，其中在所述第二状态期间操作所述次要射频产生器使用在所述第一状态期间所产生的所述等离子体鞘的所述经增加的电荷的至少一部分作为添加功率以增强所述第二状态期间所产生的所述离子能量，所述添加功率减少当所述离子被导向所述衬底的表面时所述离子的所述角分散，其中所述主要射频产生器与所述次要射频产生器通过阻抗匹配电路而耦合至与所述等离子体室相关的上电极；以及根据所述脉冲化信号在所述第一状态与所述第二状态中持续操作所述主要射频产生器与所述次要射频产生器，以增进在所述第一状态与所述第二状态的多个循环期间的所述蚀刻操作。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 朗姆研究公司 用于实现具有低角分散的峰值离子能量增强的系统和方法

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