申请/专利权人：安徽其芒光电科技有限公司

申请日：2023-09-05

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN220746057U

主分类号：C23C14/24

分类号：C23C14/24;C23C14/34;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权

摘要：本申请公开一种真空镀膜装置，包括反应容器、镀膜伞架、蒸发镀膜机构、溅射镀膜机构和排气机构。反应容器具有真空腔室。反应容器内设有能将基片保持于保持面的镀膜伞架。镀膜伞架围绕一竖直轴线旋转，保持面的直径自上而下线性增大。蒸发镀膜机构和溅射镀膜机构均朝向保持面设置。排气机构包括冷阱组件、容纳腔室、用于连通容纳腔室和真空腔室的连通通道、连通容纳腔室的排气管道、设置在排气管道上的阀体以及连接于排气管道远离容纳腔室一端的第一泵组。冷阱组件包括具有沿水平方向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体。排气管道的入口位于容纳腔室背离连通通道的一侧。入口在端口所在平面上的垂直投影位于端口的内侧。阀体用于控制排气管道的通断。

主权项：1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：具有用于镀膜的真空腔室的反应容器，所述反应容器内设有能将基片保持于保持面的镀膜伞架，所述镀膜伞架围绕一竖直轴线旋转，所述保持面的直径自上而下线性增大；所述保持面的横截面为圆形或多边形；设置在所述真空腔室用于对所述基片进行蒸发镀膜的蒸发镀膜机构，所述蒸发镀膜机构朝向所述保持面设置；设置在所述真空腔室用于对所述基片进行溅射镀膜的溅射镀膜机构，所述溅射镀膜机构朝向所述保持面设置，所述蒸发镀膜机构和所述溅射镀膜机构位于所述镀膜伞架的同一侧；用于对所述真空腔室排气的排气机构，所述排气机构包括冷阱组件、安装所述冷阱组件的容纳腔室、用于连通所述容纳腔室和所述真空腔室的连通通道、连通所述容纳腔室的排气管道、设置在所述排气管道上的阀体以及连接于所述排气管道远离所述容纳腔室一端的第一泵组；所述冷阱组件包括具有沿水平方向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；所述连通通道沿所述水平方向延伸，所述连通通道的中心轴线垂直于所述镀膜伞架的所述竖直轴线；所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；所述连通通道具有通入所述容纳腔室的端口，所述端口所在平面垂直于所述水平方向，所述连通通道在所述端口所在平面上的垂直投影与所述端口重合，所述冷阱主体在所述端口所在平面上的垂直投影围绕在所述端口的外侧；所述排气管道的入口位于所述容纳腔室背离所述连通通道的一侧；所述入口在所述端口所在平面上的垂直投影位于所述端口的内侧；所述阀体用于控制所述排气管道的通断。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安徽其芒光电科技有限公司 真空镀膜装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD