申请/专利权人：芯越微电子材料(嘉兴)有限公司

申请日：2024-03-12

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117867501A

主分类号：C23F1/26

分类号：C23F1/26;C23F1/20;C23F1/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种钼铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属层的制备方法。本发明提供的蚀刻液的成分包括：磷酸、硝酸、羧酸化合物、缓蚀剂和表面活性剂；缓蚀剂至少包括乙酸铵；磷酸在蚀刻液中的含量为30~70wt%，硝酸在蚀刻液中的含量为8~20wt%，羧酸化合物在蚀刻液中的含量为1~20wt%，乙酸铵在蚀刻液中的含量为5~17wt%。该蚀刻液不含醋酸，通过引入乙酸铵并提高硝酸含量，延长蚀刻液使用寿命、避免频繁硝酸补液，且能有效控制taper角。此外，本发明引入氨基氮唑类缓蚀剂与乙酸铵复配，能广泛应用于铝钼单层或多层金属蚀刻；并通过引入锂盐调节金属钼和铝的相对蚀刻速率，改善蚀刻后形貌。

主权项：1.一种钼铝兼用蚀刻液，其特征在于，成分包括：磷酸、硝酸、羧酸化合物、缓蚀剂和表面活性剂；所述缓蚀剂至少包括乙酸铵；所述磷酸在蚀刻液中的含量为30~70wt%，所述硝酸在蚀刻液中的含量为8~20wt%，所述羧酸化合物在蚀刻液中的含量为1~20wt%，所述乙酸铵在蚀刻液中的含量为5~17wt%。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 芯越微电子材料(嘉兴)有限公司 一种钼铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属层的制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD