申请/专利权人:华为技术有限公司;复旦大学
申请日:2021-10-30
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117882177A
主分类号:H01L21/336
分类号:H01L21/336
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开
摘要:本申请的实施例提供了一种晶体管、集成电路以及电子设备,涉及半导体技术领域,能够降低晶体管的亚阈值摆幅。上述的晶体管包括:衬底;衬底上沿平行于衬底的第一方向依次设置有第一源区、第二源区、沟道以及漏区;沟道上设置有绝缘层;绝缘层上设置有第一栅极;漏区上设置有漏极;第一源区上设置有源极;晶体管还包括导体,其中,第一源区与第二源区接触形成接触面,导体与第一源区以及第二源区接触,并且接触面与导体垂直。
主权项:一种晶体管,其特征在于,包括:衬底;所述衬底上沿平行于所述衬底的第一方向依次设置有第一源区、第二源区、沟道以及漏区;所述沟道上设置有绝缘层;所述绝缘层上设置有第一栅极;所述漏区上设置有漏极;所述第一源区上设置有源极;所述晶体管还包括导体,其中,所述第一源区与所述第二源区接触形成接触面,所述导体与所述第一源区以及所述第二源区接触,并且所述接触面与所述导体垂直。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 华为技术有限公司;复旦大学 一种晶体管、集成电路以及电子设备
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