申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2023-04-03

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117878052A

主分类号：H01L21/687

分类号：H01L21/687;H01L21/67

优先权：["20221012 JP 2022-163724"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及基板处理装置和基板把持装置。提供提高基板保持部的维护性的技术。实施方式的基板处理装置向旋转的基板的表面供给处理液。基板处理装置具备基板保持部。基板保持部保持基板。基板保持部具备把持部和基座部。把持部与基板的周缘接触，把持基板。基座部供把持部安装。

主权项：1.一种基板处理装置，其向旋转的基板的表面供给处理液，其中，该基板处理装置具备保持所述基板的基板保持部，所述基板保持部具备：把持部，其与所述基板的周缘接触，把持所述基板；以及基座部，其供所述把持部安装。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板把持装置

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