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【发明公布】一种离子源装置及残余气体分析仪_奕瑞影像科技成都有限公司_202311787703.9 

申请/专利权人:奕瑞影像科技成都有限公司

申请日:2023-12-25

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117877962A

主分类号:H01J49/06

分类号:H01J49/06;H01J49/12;G01N27/64

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本申请提供一种离子源装置及残余气体分析仪,其中,离子源装置包括电离室、灯丝、推斥结构、金属栅网和引出极板。电离室进口端用于气体进入电离室,电离室靠近出口端的侧壁设置贯穿侧壁的电子进口。灯丝设置在电离室外正对电子进口。推斥结构设置在灯丝远离灯丝一侧。金属栅网设置在电离室内将电离室分割为两个腔体,金属栅网处于电子进口位置与电离室的进口端之间并更靠近电子进口位置;金属栅网与电离室内壁接触。引出极板中间设有引出口,引出极板在电离室出口端,引出口与电离室出口端正对。本申请离子源装置可以控制电子撞击产生离子的区域,提高离化效率,且能够对离子的引出产生推斥作用,提高了引出效率及聚焦效果。

主权项:1.一种离子源装置,其特征在于,包括:电离室10,包括出口端和进口端,所述进口端用于气体进入所述电离室10,所述电离室10靠近所述出口端的侧壁设置有贯穿侧壁的电子进口101;灯丝20,设置在所述电离室10外并位于所述电子进口101处;推斥结构30,设置在所述灯丝20远离所述灯丝20的一侧,用于对所述灯丝20产生的电子推斥,以使电子由所述电子进口101进入所述电离室10内;金属栅网40,设置在所述电离室10内将所述电离室10分割为两个腔体,且所述金属栅网40处于所述电子进口101位置与所述电离室10的进口端之间并更靠近所述电子进口101位置;所述金属栅网40与所述电离室10的内壁接触;引出极板50,其中间设置有引出口501,所述引出极板50安装在所述电离室10的出口端,且所述引出口501与所述电离室10的出口端正对。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 奕瑞影像科技成都有限公司 一种离子源装置及残余气体分析仪

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