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【发明授权】带辅助衬垫的膜电极接合体及其制造方法和制造装置_株式会社斯库林集团_202011271281.6 

申请/专利权人:株式会社斯库林集团

申请日:2020-11-13

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN112820918B

主分类号:H01M8/1004

分类号:H01M8/1004;H01M4/88

优先权:["20191115 JP 2019-207133"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2021.06.04#实质审查的生效;2021.05.18#公开

摘要:本发明提供一种带辅助衬垫的膜电极接合体的制造方法以及制造装置、带辅助衬垫的膜电极接合体,能够抑制在带辅助衬垫膜的膜电极接合体中产生褶皱等变形。基材接合体B3从一侧到另一侧依次具有第一背片91a、第一辅助衬垫膜92a、膜电极接合体85、第二辅助衬垫膜92b、以及第二覆盖膜93b。膜电极接合体包括在一侧的面具有第一催化剂层83且在另一侧的面具有第二催化剂层84的电解质膜82。另外,基材接合体还具有:第一覆盖膜93a,配置在第一辅助衬垫膜与第一催化剂层83之间,呈与第一催化剂层83相对应的形状;第二覆盖膜93b,配置在第二催化剂层与第二辅助衬垫膜之间,呈与第二催化剂层相对应的形状。

主权项:1.一种带辅助衬垫的膜电极接合体的制造方法,其中,包括:a工序,准备第一基材,所述第一基材从一侧朝向另一侧依次具有第一背片、第一辅助衬垫膜、包括在一侧的面具有第一催化剂层且在另一侧的面具有第二催化剂层的电解质膜的膜电极接合体,并且在所述第一辅助衬垫膜与所述第一催化剂层之间还具有与所述第一催化剂层相对应的形状的第一覆盖膜;b工序,准备第二基材,所述第二基材依次具有第二背片、第二辅助衬垫膜、与所述第二催化剂层相对应的形状的第二覆盖膜;以及c工序,一边使所述第二基材的所述第二覆盖膜与所述第一基材的第二催化剂层对位,一边将所述第二基材贴付于所述第一基材来制作基材接合体。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社斯库林集团 带辅助衬垫的膜电极接合体及其制造方法和制造装置

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