申请/专利权人：嘉兴元浩光电科技有限公司

申请日：2023-09-07

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN220829022U

主分类号：F26B9/10

分类号：F26B9/10

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权

摘要：本实用新型涉及晶片清洗技术领域，尤其涉及一种晶片清洗沥水装置，包括圆盘，所述圆盘的顶部开设有多个放置槽，所述放置槽的长度从上往下逐渐减小，所述圆盘的底部开设有凹槽，所述圆盘两侧的底部开设有通槽，所述凹槽与通槽连通，多个所述放置槽呈圆周等距设在圆盘上，所述放置槽内部上下宽度相等，所述放置槽的宽度大于晶片的厚度。本实用新型可将晶片放入至圆盘的放置槽内，由于放置槽的长度从上往下逐渐减小，保证了晶片放置的稳定性，而在清洗过程中，可直接将圆盘放入至晶片清洗装置内，提起圆盘后，晶片上的水分会从放置槽和凹槽内落下，便于对晶片清洗沥水操作，结构简单，使用方便，提高了晶片清洗效率。

主权项：1.一种晶片清洗沥水装置，包括圆盘（100），其特征在于：所述圆盘（100）的顶部开设有多个放置槽（200），所述放置槽（200）的长度从上往下逐渐减小；所述圆盘（100）的底部开设有凹槽（300），所述圆盘（100）两侧的底部开设有通槽（400），所述凹槽（300）与通槽（400）连通。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 嘉兴元浩光电科技有限公司 一种晶片清洗沥水装置

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