申请/专利权人：业成光电(深圳)有限公司;业成科技(成都)有限公司;英特盛科技股份有限公司

申请日：2024-01-03

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117936525A

主分类号：H01L25/075

分类号：H01L25/075;H01L33/50;G09F9/33

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：本申请涉及电学领域，提供一种改善光晕现象的结构及其制备方法。改善光晕现象的结构的制备方法，步骤如下所述，首先将多个发光单元设置在电路基板上，再来铺设遮光层，使遮光层覆盖各个发光单元及各个发光单元之间的间隙，接着在遮光层上开孔，以暴露各个发光单元的上表面，并在各个发光单元周边形成遮光单元，再来铺设荧光粉层，使荧光粉层覆盖各个发光单元的上表面，最后削平荧光粉层，使各个发光单元的上表面上分别形成荧光单元，以获得改善光晕现象的结构。本申请可以避免相关技术容易导致光晕现象产生的问题。

主权项：1.一种改善光晕现象的结构，其特征在于，包括电路基板，所述电路基板上设置多个发光单元，各所述发光单元之间充填有遮光单元，而各所述发光单元的上表面分别设置荧光单元。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 业成光电(深圳)有限公司;业成科技(成都)有限公司;英特盛科技股份有限公司 改善光晕现象的结构及其制备方法

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