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五金工具产品及配附件制造技术
气相沉积系统、热膨胀测量方法以及测量工艺间隙的方法
本发明公开了一种加热器的热膨胀量测量方法,包括步骤:第一温度下,通过高度调节组件逐渐缩小晶圆与加热器的间距,过程中保持抽气管道抽气并实时记录抽气管道出口处的气压值,当该气压值趋于稳定时,获取第一温度下第一气压值到达第一饱和点时对应的所述高度...
用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体
本发明涉及用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体。该方法包括步骤:产生在气相中的金属材料,将气态的金属材料导入到扩张空间中,其中,扩张空间设置成使气态的金属材料扩张并且指向基底,并且将金属材料沉积在基底的表面的至少一部分上。经涂覆...
一种具有电驱动红外屏蔽热调控功能的镀膜膜系制备方法
本发明公开了一种具有电驱动红外屏蔽热调控功能的镀膜膜系制备方法,涉及功能薄膜制备玻璃深加工技术领域,包括以下步骤:S1、采用磁控溅射方法镀膜,磁控溅射装备本底真空抽至10
‑6
Torr,以500‑4000W功率镀膜,Ar...
一种高温合金丝表面镀层喷涂装置
本发明公开了一种高温合金丝表面镀层喷涂装置,其特征在于,包括合金丝、喷涂机构与收纳机构,所述喷涂机构包括支架,拆卸安装于支架上方的支撑筒,所述支撑筒顶部固定安装有加热管,所述加热管底部等距设置有多个电弧喷涂枪,电弧喷涂枪上分别设置有输料管与...
兼具高硬度、高耐磨性能和高耐热性能的预氧化多层复合涂层的制备工艺
本发明公开了一种兼具高硬度、高耐磨性能和高耐热性能的预氧化多层复合涂层的制备工艺,属于涂层技术领域。该工艺是采用电弧离子镀技术在基体上先沉积AlCrN/TiSiN纳米多层膜,再沉积TiSiN高硬层,最后沉积AlCrTiSiON预氧化涂层;沉...
薄膜沉积设备的传送控制方法、装置和传送控制系统
本申请涉及一种薄膜沉积设备的传送控制方法、装置、传送控制系统、计算机可读存储介质和计算机程序产品。所述方法包括:获取承载有基片的多个载板在薄膜沉积设备中的分布信息,分布信息包括载板所在的有料腔体的标识信息;根据分布信息,获取对应的开启指令,...
分气装置及沉积设备
本发明提供了一种分气装置及沉积设备,包括:壳体,内部中空且设有第一通道、容置空间以及N个第二通道,容置空间分别与第一通道和N个第二通道连通,第一通道用于与远程等离子体源连接,第二通道用于与喷淋板连通或者通过导气管路与喷淋板连通;旋转阀本体,...
一种等离子增强的气相沉积设备
本实用新型公开了一种等离子增强的气相沉积设备,包括反应腔体和外真空腔体,反应腔体设置在外真空腔体内部;还包括等离子体发生组件、源进气装置、气体扩散腔、多层结构的工件架、加热装置以及真空泵;多层结构的工件架竖直并可转动地安装在反应腔体内,气体...
一种AlCrN/TiSiN/AlCrTiSiON预氧化多层复合涂层及其制备工艺
本发明公开了一种AlCrN/TiSiN/AlCrTiSiON预氧化多层复合涂层及其制备工艺,属于涂层技术领域。该复合涂层的最底层为AlCrN过渡层,过渡层之上由AlCrN/TiSiN纳米多层膜和TiSiN高硬层依次叠加1‑4次;所述纳米多层...
用于清洁工艺腔室部件的系统和方法
本文所述的实施方式涉及用于清洁半导体工艺腔室部件的工艺系统。所述工艺系统包括工艺腔室,所述工艺腔室具有工艺腔室部件。所述工艺腔室组件包括基板支撑件,所述基板支撑件设置在所述工艺腔室的腔室空间内。气体分配组件面向所述基板支撑件。气体挡板流体地...
一种在钛合金表面原位制备氧化锆陶瓷层的方法
本发明提供一种在钛合金表面原位制备氧化锆陶瓷层的方法,其特征在于,所述方法包括:(1)表面预处理:对钛合金样品进行磨抛处理,而后清洗、干燥;(2)锆离子注入:以金属锆为离子注入源,在真空条件下对完成表面预处理的样品进行离子注入;(3)热氧化...
一种表面原位修饰氧化物陶瓷层的锆合金材料的制备方法
本发明提供一种表面原位修饰氧化物陶瓷层的锆合金材料的制备方法,所述制备方法包括:对锆合金样品进行磨抛处理,再以金属锆为离子注入源,在真空条件下对所述锆合金样品进行离子注入;所述离子注入结束后,再在空气气氛中对所述锆合金样品进行热氧化处理,得...
高温化学气相沉积设备
本实用新型适用于半导体生产技术领域,提供了一种高温化学气相沉积设备,上述高温化学气相沉积设备包括真空容器、隔热部、反应容器以及加热器。与现有技术中的高温化学气相沉积设备相比,可以将反应容器与加热器设置在隔热部上的容纳空间中,通过。隔热部的设...
气相生长设备的预处理方法及三五族化合物薄膜制备方法
本发明提供了一种气相生长设备的预处理方法及三五族化合物薄膜制备方法。气相生长设备的预处理方法包括控制可控温顶板的顶板温度为130~170℃、旋转基座的基座温度为600~720℃、反应腔室内的腔室压力为35~100mbar、旋转基座的旋转速率...
一种镁硅铈氧双陶瓷层结构热障涂层的制备方法
本发明是一种镁硅铈氧双陶瓷层结构热障涂层的制备方法,该方法是采用电子束物理气相沉积工艺,以单一组分的Mg
3
(Si
0.8
Ce
0.2
)
2
O
7
一种金刚石真空镀膜设备
本实用新型公开了一种金刚石真空镀膜设备,包括镀膜仓和送料组件,所述镀膜仓包括仓体和仓门,所述仓门与仓体铰接,所述仓门边缘设置为阶梯状结构,所述仓门上边缘设置有双层密封圈;所述仓体一侧设置有第一插入口,所述第一插入口在仓体内侧表面凸出设置;所...
一种提高钛合金关节轴承自润滑性能的方法
本发明提供一种提高钛合金材料自润滑性的方法,该方法包括:在经离子注入和热氧化修饰后的钛合金基体表面,通过离子束辅助沉积的方式制备纳米润滑层。本发明将锆离子注入层、氧化锆陶瓷层与纳米润滑膜组合,形成梯度过渡、稳定致密的多层结构,通过复合多层结...
一种盖环
一种放置于真空腔体内的盖环,包括环形板及环形槽体。环形板具有第一表面、相对第一表面的第二表面以及开口。开口从第一表面延伸至第二表面。环形槽体固设于第二表面上并包括内环壁、外环壁、多个限位件。内环壁围绕开口,且外环壁围绕开口与内环壁。内环壁与...
一种高耐热复合多层涂层及其制备方法
本发明提供了一种高耐热复合多层涂层及其制备方法,具体涉及表面涂层技术领域。本发明公开了一种高耐热复合多层涂层,包括依次涂敷在硬质合金基体上的Cr结合层、Cr
1‑X
Al
X
N/nc‑CrAlN‑a‑C...
一种局域掺杂铌酸锂薄膜及其制备方法和应用
本发明提供一种局域掺杂铌酸锂薄膜及其制备方法和应用,属于集成光学领域。本方法包括:磁控溅射法在铌酸锂晶片表面局域镀膜、局域镀膜的铌酸锂晶片在缺锂坩埚中进行扩散、利用Smart‑cutting技术制备局域掺杂铌酸锂薄膜。本发明制备方法工艺简单...
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