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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种金刚石材料制备装置及其制备方法
    一种金刚石材料制备装置及其制备方法_河南新源超硬材料有限公司_202410881168.1
    本发明属于金刚石材料制备技术领域，具体的说是一种金刚石材料制备装置及其制备方法，制备装置包括制备反应器和电磁输入组件，所述制备反应器的侧边固定安装有第二抽真空管和第二甲烷输入口，所述制备反应器的外侧固定安装有预热反应器，所述预热反应器和制备...
    2025-06-18
  • 一种针对低饱和蒸气压前驱体源的原子层沉积供气系统
    一种针对低饱和蒸气压前驱体源的原子层沉积供气系统_江苏迈纳德微纳技术有限公司_202510283859.6
    本发明公开了一种针对低饱和蒸气压前驱体源的原子层沉积供气系统，属于原子层沉积反应设备技术领域。该系统通过将质量流量控制器与原有的进气气动阀相结合，实现了对沉积过程中前驱体源瓶中气体量的精确控制；并通过压力计实时监测前驱体源瓶内部的压力，实现...
    2025-06-18
  • 氧化物半导体薄膜、薄膜半导体装置及其制造方法、以及溅射靶及其制造方法
    氧化物半导体薄膜、薄膜半导体装置及其制造方法、以及溅射靶及其制造方法_株式会社爱发科_202411834529.3
    [课题]本发明提供一种能够实现高迁移率的活性层的薄膜晶体管的氧化物半导体薄膜及使用该氧化物半导体薄膜的薄膜半导体装置及其制造方法，另外，提供一种能够用于形成上述氧化物半导体薄膜的溅射靶及其制造方法。[解决课题的手段]本发明提供一种氧化物半导...
    2025-06-18
  • 一种可提高溅射效率的表面氧化装置及方法
    一种可提高溅射效率的表面氧化装置及方法_上海哈呐技术装备有限公司_202510293614.1
    本发明涉及‌磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种可提高溅射效率的表面氧化装置及方法，包括控制箱，还包括旋转镀膜组件，包括转动安装在镀膜箱中心处放置架，放置架上等角度放置有多个基材；溅射机构，包括固定安装在镀膜箱两侧的溅射箱，溅射箱中转动安装有...
    2025-06-18
  • 一种MPCVD微波谐振装置
    一种MPCVD微波谐振装置_成都腾六光电有限公司_202422177587.5
    本实用新型公开了一种MPCVD微波谐振装置，涉及微波谐振技术领域，包括第一圆柱形外壳以及位于第一圆柱形外壳内部的第二圆柱形外壳，所述第一圆柱形外壳和第二圆柱形外壳之间具有微波通道，所述第一圆柱形外壳顶部安装有微波发生器；所述第二圆柱形外壳的...
    2025-06-18
  • 汽化器压力监控系统及汽化器系统
    汽化器压力监控系统及汽化器系统_盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司_202311722863.5
    本发明提供一种汽化器压力监控系统及汽化器系统，其中监控系统包括设置在汽化器内部的气体流路上检测所述气体流路中的气体压力的内部压力传感器、设置在所述气体流路的气体输出端处检测所述气体输出端处气体压力的第三压力传感器以及监控所述汽化器各部的压力...
    2025-06-18
  • 用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法
    用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法_应用材料公司_202180039228.X
    描述了一种用于蒸发源的温度控制遮蔽件。温度控制遮蔽件被配置成提供预加热区或后冷却区。
    2025-06-18
  • 一种杆塔镀锌装置
    一种杆塔镀锌装置_江苏玖泰电力实业有限公司_202422468158.3
    本实用新型提供了一种杆塔镀锌装置，涉及杆塔生产技术领域，包括：镀锌池，镀锌池顶部固定连接有支撑架，支撑架上分设有支架。该种装置通过送料组件将杆塔送入镀锌池中进行镀锌，镀锌完毕后再将杆塔从镀锌池中引上，再配合上下料组件将杆塔不断到放置架上，并...
    2025-06-18
  • 一种耐1000℃的金属/氮化物双层涂层及其制备方法和应用
    一种耐1000℃的金属/氮化物双层涂层及其制备方法和应用_上海大学_202510351352.X
    本发明涉及一种耐1000℃的金属/氮化物双层涂层及其制备方法和应用，所述金属/氮化物双层涂层，包括沿基体依次生长的金属中间层和氮化物涂层，所述氮化物涂层(3)由非晶SixAlyCrz
    2025-06-18
  • 一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置及其方法
    一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置及其方法_上海富乐华半导体科技有限公司_202510254825.4
    本发明公开了一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置及其方法。一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置，包括一磁控溅射装置；磁控溅射装置包括真空箱以及放置在真空箱内的圆筒形挂架，圆筒形挂架上设置有氮化铝陶瓷板安装位，圆筒形挂架连接驱动机构；磁控溅射装置还包...
    2025-06-18
  • 一种高刚性基片镀膜载板
    一种高刚性基片镀膜载板_福建金石能源有限公司_202421911308.7
    本实用新型公开了一种高刚性基片镀膜载板，包括金属丝、两组平行设置的C型钢非传送边和不锈钢传送边组成的矩形边框和缓冲弹簧板，所述金属丝一端固定压紧在C型钢非传送边上，另一端通过金属丝张紧结构安装在另一边C型钢非传送边上，所述金属丝张紧结构包括...
    2025-06-18
  • 一种节能型双峰温度镀锡设备
    一种节能型双峰温度镀锡设备_江西浩百电子材料有限公司_202510297498.0
    本发明涉及镀锡设备领域，尤其涉及一种节能型双峰温度镀锡设备。包括有支架、镀锡炉和加热器等；支架上固接有镀锡炉；镀锡炉内固接有若干个加热器。本发明实现了通过将加入镀锡炉内的惰性气体分为两个流动通道，使得惰性气体不仅能够对镀锡炉内的锡液进行保护...
    2025-06-18
  • 高通量连续型粉体原子层沉积设备
    高通量连续型粉体原子层沉积设备_中科艾科米(北京)科技有限公司_202510267081.X
    本发明的高通量连续型粉体原子层沉积设备，包括粉料自动上料系统、第一反应腔、第二反应腔、泵送系统、前驱体及载气输送系统、加热系统及控制系统，还包括：与第一反应腔连通的第一缓存腔，以对落入第一反应腔的粉料预加热；及与第二反应腔连通的第二缓存腔，...
    2025-06-18
  • 基于钎涂技术的石油化工设备金属表面防腐处理工艺
    基于钎涂技术的石油化工设备金属表面防腐处理工艺_北京松信中达科技发展有限公司_202510333712.3
    本发明涉及石油化工设备防腐技术领域,公开了基于钎涂技术的石油化工设备金属表面防腐处理工艺，包括以下步骤：S1、根据工况调配适合的复合粉末配方；S2、对金属基体表面进行预处理；S3、将选定的复合粉末喷涂到金属基体表面；S4、对喷涂后的金属基体...
    2025-06-18
  • 蒸镀装置以及蒸镀装置用掩模
    蒸镀装置以及蒸镀装置用掩模_三星显示有限公司_202421760911.X
    本实用新型涉及一种蒸镀装置以及蒸镀装置用掩模，所述蒸镀装置具备：基板；掩模，配置在所述基板的第一面，并包括支承所述基板的边缘区域的掩模框架；贯通孔，沿所述基板的边缘区域形成在所述掩模框架；测定部件，在与所述贯通孔相对应的位置中配置在所述基板...
    2025-06-18
  • 一种卷对卷CVD生产设备和工艺
    一种卷对卷CVD生产设备和工艺_合肥微晶材料科技有限公司_202510381941.2
    本发明公开了一种卷对卷CVD生产设备和工艺，涉及化学气相沉积技术领域，设有依次密封连通的放卷区、预处理区、生长区、冷却区和收卷区；预处理区和生长区通过由预处理区前端贯通至生长区后端的预处理生长腔连通；预处理生长腔外环绕设置加热单元，并于加热...
    2025-06-18
  • 一种高温耐蚀性镍合金喷涂材料及其制备方法
    一种高温耐蚀性镍合金喷涂材料及其制备方法_江苏启迪合金有限公司_202311730740.6
    本发明属于金属材料加工领域，具体涉及一种高温耐蚀性镍合金喷涂材料及其制备方法。该喷涂材料包括内层材料与外层材料；内层材料与外层材料搭配使用；所述内层材料包括A组分与B组分的混合物；所述外层材料包括A组分与B组分的混合物；所述A组分为陶瓷材料...
    2025-06-18
  • 一种真空溅镀用的遮挡组件及其再生方法
    一种真空溅镀用的遮挡组件及其再生方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202510366078.3
    本发明涉及溅射镀膜设备技术领域，具体提供了一种真空溅镀用的遮挡组件及其再生方法，方法具体包括对使用过后的遮挡组件进行物理处理，去除金属镀膜、对遮挡组件进行表面粗糙度处理、表面多孔隙层建立、表面检查、清洁包装；本发明区别于现有的遮挡组件的再生...
    2025-06-18
  • 一种用于镀膜的翻转装置
    一种用于镀膜的翻转装置_遵化市富森钛金设备有限公司_202422229786.6
    本实用新型涉及一种翻转装置，具体涉及一种用于镀膜的翻转装置。包括动力结构、镀膜室、第一夹持结构和第二夹持结构；动力结构固设于镀膜室外部；第一夹持结构包括连接杆、固定框、顶板、丝杆、下压板、销杆和弹簧，连接杆一端与动力结构传动连接，连接杆的杆...
    2025-06-18
  • 一种实时监测液源反应气体稳定性的薄膜沉积装置
    一种实时监测液源反应气体稳定性的薄膜沉积装置_上海积塔半导体有限公司_202510338712.2
    本发明提供一种实时监测液源反应气体稳定性的薄膜沉积装置，包括气路系统、主反应腔、副反应腔和控制单元，气路系统将载气和液源形成气雾态的液源反应气体；主反应腔用于液源反应气体进行薄膜沉积工艺，副反应腔用于模拟主反应腔中的薄膜沉积工艺，且副反应腔...
    2025-06-18
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