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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种集成旋转升降基板与自清洁阀门的ALD设备
    一种集成旋转升降基板与自清洁阀门的ALD设备_杭州电子科技大学_202510489876.5
    本发明涉及原子层沉积设备领域，具体是一种集成旋转升降基板与自清洁阀门的ALD设备，其旋转升降基板组件包括从下往上依次安装的伺服旋转电机、垂直升降杆、旋转台和基板；其转盘式阀门自清洁组件包括转盘、用于驱动转盘旋转的电机、自密封伸缩管道、吹扫管...
    2025-07-22
  • 一种端面靶组件和溅射沉积装置
    一种端面靶组件和溅射沉积装置_亚芯半导体材料(江苏)有限公司_202510561624.9
    本发明属于端面靶技术领域，具体涉及一种端面靶组件和溅射沉积装置，解决了现有技术中安全性不足和效率不足的问题，包括磁控溅射箱、溅射器以及膜片固定顶盖，溅射器呈轴向安装在磁控溅射箱的底壁上，膜片固定顶盖滑动装配在磁控溅射箱的顶部，磁控溅射箱的底...
    2025-07-22
  • 用于增加来自安瓿的通量的设备
    用于增加来自安瓿的通量的设备_应用材料公司_201880020038.1
    描述了用于半导体制造前驱物的安瓿和使用方法。安瓿包括具有入口端口和出口端口的容器。入口端口在容器内的端部具有喷头。喷头具有至少两个成角度的喷嘴，以引导空腔内的气流，使得气流不垂直于安瓿内的液体的表面。
    2025-07-22
  • 一种微波等离子体化学气相沉积系统
    一种微波等离子体化学气相沉积系统_宁波晶钻科技股份有限公司_202422354836.3
    本微波等离子体化学气相沉积系统，包括有：微波谐振腔体，用于金刚石的生长；调节机构，设置在所述微波谐振腔体外，用于调节所述微波谐振腔体的体积的大小；其特征在于：所述微波谐振腔体之外设有下腔室，所述调节机构包括有驱动源以及调节部分，对应地，所述...
    2025-07-22
  • 一种基于光刻胶的金属薄膜沉积方法及相关设备
    一种基于光刻胶的金属薄膜沉积方法及相关设备_赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司_202211604469.7
    本发明提供了一种基于光刻胶的金属薄膜沉积方法及相关设备，该方法包括：控制磁控溅射设备输出目标溅射功率，以使等离子体轰击金属靶材，在衬底光刻胶上沉积金属薄膜；在所述衬底光刻胶上沉积所述金属薄膜的过程中，对衬底光刻胶进行冷却降温，以控制所述衬底...
    2025-07-22
  • 可产生均匀温度分布的晶圆承载盘
    可产生均匀温度分布的晶圆承载盘_天虹科技股份有限公司_202422388786.0
    本实用新型为一种可产生均匀温度分布的晶圆承载盘，主要包括一支撑组件及一多孔隙单元，其中支撑组件包括至少一凹槽及一进气管线。多孔隙单元由多孔性材料所制作，并设置在支撑组件的顶表面。多孔隙单元包括一本体、多个凸起部及至少一扩散通道，其中凸起部及...
    2025-07-22
  • 一种镀锌管道生产用多功能捞渣机
    一种镀锌管道生产用多功能捞渣机_山西正大制管有限公司_202510803471.4
    本发明涉及捞渣机的技术领域，尤其涉及一种镀锌管道生产用多功能捞渣机，包括有圆杆、抓斗、连杆二、电机、圆筒、绳索、活动板一、限位块一和限位块二；连杆一上固接有圆杆；圆杆上转动连接有两个对称的抓斗；每个抓斗上均转动连接有若干个连杆二，连杆二与连...
    2025-07-22
  • 一种调控CoNb软磁薄膜应用频率的工艺方法
    一种调控CoNb软磁薄膜应用频率的工艺方法_电子科技大学_202510223682.0
    一种调控CoNb软磁薄膜应用频率的工艺方法，属于薄膜制备技术领域。包括：1)清洗Si(111)衬底；2)衬底固定在样品台上，所述衬底与样品台呈θ角，θ＝15°～35°；3)利用磁控溅射镀膜系统，在本底真空<2.0×10‑5<...
    2025-07-22
  • 一种低电阻温度系数复合薄膜的制备方法
    一种低电阻温度系数复合薄膜的制备方法_上海大学_202510537758.7
    本发明涉及一种低电阻温度系数复合薄膜的制备方法，属于表面功能薄膜材料技术领域，包括如下制备方法：将衬底置于真空沉积室内，对真空沉积室抽真空至≤5×10‑3Pa，充入氩气，调节工作气压为0.2‑0.8Pa，使用具有正的电...
    2025-07-22
  • 一种高效热交换卷绕镀膜冷辊
    一种高效热交换卷绕镀膜冷辊_福建金石能源有限公司_202421651222.5
    本实用新型涉及镀膜设备领域，公开了一种高效热交换卷绕镀膜冷辊，其包括外套和芯轴。其中，外套套于芯轴上，并密封固定连接。外套的端面上设置有若干直线冷却水道；每条冷却水道的两端密封堵住。芯轴的外壁上设置有若干个汇水槽，汇水槽与外套的内壁形成一个...
    2025-07-22
  • 利用RF脉冲的选择金属的选择性改进
    利用RF脉冲的选择金属的选择性改进_应用材料公司_202480005364.0
    本发明的实施例关于通过将基板表面暴露于氢(H2)等离子体及RF脉冲而从基板表面移除金属氧化物的方法。在一些实施例中，基板表面的上面具有至少一个特征，所述至少一个特征界定具有顶表面、底表面、与两个相对侧壁的沟槽。氢(H<...
    2025-07-22
  • 一种高强度节能型金具防腐工艺
    一种高强度节能型金具防腐工艺_河北中北电力金具有限公司_202510475159.7
    本发明涉及金具表面处理技术领域，且公开了一种高强度节能型金具防腐工艺，包括以下步骤：金具经打磨、喷砂处理后，再清洗、烘干，得到预处理金具；采用等离子喷涂将高强防腐材料涂覆在预处理金具表面，得到表面覆盖有高强防腐涂层的金具，再经热处理后，得到...
    2025-07-22
  • 一种气刀大梁
    一种气刀大梁_唐山市佳冠实业有限公司_202422086867.5
    本实用新型涉及金属表面处理装置技术领域，提出了一种气刀大梁，包括外梁，将外梁的长度方向定义为纵向，水平方向上与梁的长度方向垂直的方向定义为横向，内梁横向滑动设置在外梁上，刀体摆动设置在内梁上，侧挡装置为两个相对设置，用于挡住镀锌板的两侧，气...
    2025-07-22
  • 一种在铁镍合金复合材料基底上磁控溅射金属钌的方法
    一种在铁镍合金复合材料基底上磁控溅射金属钌的方法_陕西群力创达电子科技有限公司_202510492310.8
    本发明公开了一种在铁镍合金复合材料基底上磁控溅射金属钌的方法。本发明首次在铁镍合金复合材料基底上沉积金属钌，通过优化溅射参数，如溅射温度、功率、气压和时间等，实现对钌层厚度的精确控制。该方法可用于结合度好、均匀性高、厚度易控制的钌层金属的溅...
    2025-07-22
  • 一种四腔室磁控溅射静态镀膜设备及镀膜方法
    一种四腔室磁控溅射静态镀膜设备及镀膜方法_苏州维克优真空技术有限公司_202510582354.X
    本发明涉及一种四腔室磁控溅射静态镀膜设备及镀膜方法，沿基片传输方向依次包括进口转换腔、过渡加热腔、若干个静态镀膜腔和出口转换腔，所述静态镀膜腔内设置有多个用于磁控溅射的旋转阴极机构，所述旋转阴极机构包括第二旋转驱动机构和磁棒组件，第二旋转驱...
    2025-07-22
  • 连续镀膜机构
    连续镀膜机构_富联裕展科技(深圳)有限公司_202421584097.0
    一种连续镀膜机构，包括PVD镀膜机台和镀膜装置。PVD镀膜机台包括炉壁和由炉壁围成的镀膜腔室，炉壁设有第一通孔；镀膜装置包括：镀膜装置箱体、插板、伸缩件和第一电机，箱体包括相互连接的第一部和第二部，第一部包括收容腔，第二部包括第二通孔，第二...
    2025-07-22
  • 切削工具用硬质涂膜
    切削工具用硬质涂膜_韩国冶金株式会社_202180075986.7
    本发明涉及一种由硬质基材(例如硬质合金、金属陶瓷、陶瓷和立方氮化硼)以及形成在该硬质基材上的硬质涂膜构成的切削工具。本发明的切削工具用硬质涂膜以多层结构形成在切削工具的基材上，其中该硬质涂膜包括一层或多层由氧化物制成的涂膜和一层或多层由氮化...
    2025-07-22
  • 一种基于超高温陶瓷材料的复合涂层及其制备方法和应用
    一种基于超高温陶瓷材料的复合涂层及其制备方法和应用_成都工业职业技术学院_202510467807.4
    本发明提供了一种基于超高温陶瓷材料的复合涂层及其制备方法和应用，属于涂层材料技术领域。本发明通过科学合理的材料设计和先进精密的制备工艺，构建基于超高温陶瓷材料的低发射太阳能吸收涂层，将超高温陶瓷材料创新性地引入太阳能吸收涂层体系，有望突破传...
    2025-07-22
  • 钕铁硼磁体微波辅助化学气相沉积复合涂层工艺
    钕铁硼磁体微波辅助化学气相沉积复合涂层工艺_浙江南磁实业股份有限公司_202510562062.X
    本发明公开了钕铁硼磁体微波辅助化学气相沉积复合涂层工艺，属于材料工程和表面处理技术领域。传统电镀和喷涂工艺常需要在500℃以上的高温下进行，这不仅导致钕铁硼磁体晶界富钕相氧化，还可能造成磁体矫顽力和剩磁的显著下降，本发明提供了一种低温下能够...
    2025-07-22
  • 一种冲蚀防护涂层及其制备方法
    一种冲蚀防护涂层及其制备方法_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202510812355.9
    本发明提供一种冲蚀防护涂层及其制备方法，涉及表面处理技术领域。本发明冲蚀防护涂层包括从下到上依次设置在基底上的Ti层、TiN层、第一TiAlSiN层和第二TiAlSiN层，且所述第一TiAlSiN层为非晶包裹纳米晶结构，所述第二TiAlSi...
    2025-07-22
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