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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明涉及热障涂层技术领域,特别涉及一种热障涂层的制备方法。本发明实施例提供一种热障涂层的制备方法,包括:将浆料利用离子喷涂工艺喷涂在待保护的基底上,得到具有纵向裂纹的隔热层;其中,所述纵向裂缝垂直于所述隔热层,所述纵向裂纹的一端延伸至所述...
  • 用于控制基板温度的方法及设备包括:测量经受沉积处理的基板;分析所述基板的测量以检测所述基板的缺陷;及基于若检测到缺陷的所述分析,发送反馈信号以修改使用于在所述沉积处理中控制所述基板的温度的温度控制器的温度控制参数,且若未检测到缺陷,不发送反...
  • 一种防止损坏下部图案化结构的基板处理方法包括:通过多次执行第一循环来形成具有一定厚度的第一薄膜,该第一循环包括将第一反应物供应到结构上并吹扫残留物;以及通过改变具有一定厚度的第一薄膜的化学成分来形成第二薄膜。
  • 公开了用于在表面上沉积氮化硅之前预处理所述表面的方法和系统。示例性方法包含通过将所述表面暴露于由包括氮和氢的一种或多种气体形成的活性物种来预处理所述表面。预处理的步骤可另外包含将所述表面暴露于包括硅的气体的步骤。
  • 本申请公开了一种自动化学气相沉积装置及其应用。本申请自动化学气相沉积装置包括炉体、样品管、样品杆、密封件和位移平台;炉体具有容纳样品管的腔体;密封件用于对炉体和样品管进行密封,密封件有开口,便于样品杆穿过,伸入样品管;样品杆可拆卸安装于位移...
  • 本发明涉及实体碳化硅制造领域,尤其涉及实体碳化硅制造工艺,包括有大型反应器、喷气口、腔体、排气管线、真空泵、初级尾气设备、次级尾气设备、中和水处理系统;本发明安装60°、120°的分流喷嘴,使基材的沉积均匀,以多管喷嘴形式减少Si气体种类的...
  • 本发明公开了一种增强镀钌钼片及其制备方法,属于镀钌钼片的技术领域。所述制备方法包括:通过磁控溅射的方式,在钼片表面真空溅射镀一层厚度为0.1~0.5μm的高纯钼镀层,获得镀钼钼片;将镀钼钼片进行氧化酸洗及离子清洗,其后通过气相沉积的方式,在...
  • 本发明公开了一种带有类金刚石薄膜的工件,其包括基材、第一类金刚石膜层、氮化硅膜层、第二类金刚石膜层和弹性体层;第一类金刚石膜层设于基材上,氮化硅膜层设于第一类金刚石膜层上,第二类金刚石膜层设于氮化硅膜层上,第一类金刚石膜层、氮化硅膜层和第二...
  • 本发明涉及金属表面处理技术领域,具体涉及一种厨房水槽真空镀膜方法,通过如下步骤制得:S1、取水槽进行前处理;S2、将水槽转入真空炉内抽真空加热,关闭节流阀,通入氩气,打开偏压,保持占空比,进行活化;S3、关闭氩气,调节真空度,通入氩气,设定...
  • 本发明提供了一种多层金刚石相变强化方法,涉及材料强化技术领域,包括:步骤S1、衬底表面预处理;步骤S2、籽晶的播种;步骤S3、制备无孔洞缺陷金刚石层;步骤S4、制备含孔洞缺陷的孪晶金刚石层;步骤S5、制备多层金刚石;步骤S6、金刚石相变强化...
  • 本实用新型公开了一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置,包括台体,台体的顶部安装有机械手,台体的一侧外壁安装有进片室,台体的另一侧外壁安装有出片室,进片室的前方安装有装卸站,出片室的前方安装有回流架,装卸站与回流架的顶端均安装有能够拆卸的基片...
  • 本实用新型属于火焰水解沉积技术领域,具体公开了一种多腔室火焰水解沉积装置,包括沉积设备本体、反应气体箱和废气处理单元,所述沉积设备本体内设有反应腔室、样品载物台和驱动样品载物台旋转的动力单元,所述样品载物台位于反应腔室的底部,所述样品载物台...
  • 本申请实施例提供了一种镁合金及镁合金制备方法。所述镁合金包括镁合金基体和复合涂层,所述复合涂层包括结合层、纹理层和着色层,所述结合层、所述纹理层和所述着色层依次设置于所述镁合金基体表面;其中,所述着色层的厚度范围为1~10μm。本申请实施例...
  • 提供了一种从包含钛的金属性部件去除原子层沉积(ALD)涂层的方法。还公开了用于促进去除金属性部件上无意的残余ALD涂层的过程的系统。预处理包含残余涂层的金属性部件为化学底切提供更大表面积。此外,将金属性部件浸入清洁化学溶液中并搅动清洁化学溶...
  • 本发明涉及半导体激光器材料制备技术领域,具体公开了一种高导热碳化硅复合热沉结构及其制备方法和应用。本发明设计了一种以碳化硅为衬底的阶梯式传热热沉结构。本发明在碳化硅衬底上依次沉积生长了导热缓冲膜层和导热膜层,利用导热缓冲膜层将低热导率的碳化...
  • 本申请提供一种抗氧化涂层及其制备方法、高温部件和航空设备,涉及涂层技术领域。抗氧化涂层包括依次层叠设置的第一涂层和第二涂层;第一涂层包括MCrAlY层、Ni‑Al层、Pt‑Al层中的一种或多种,其中,M包括Co或/和Ni;第二涂层包括纳米A...
  • 本实用新型公开了一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置,属于光学镀膜技术领域。通过对反应腔及样品放置方式做出了改进,提供了一种多功能反应腔,拓宽了设备的应用范围,节约了设备成本,通过针对不同的光学元件设计了不同的元件支架,并通过悬挂方式防止...
  • 本发明涉及一种喷头组件以及包括其的基板处理装置,根据本发明的一实施例的喷头组件可以包括:上板,包括气体流入孔;气体分配板,配置于所述上板的下方;以及喷淋板,配置于所述气体分配板的下方,并形成有气体喷射孔,所述气体分配板包括与所述气体流入孔连...
  • 本发明公开一种氧氮化钽单晶薄膜及其制备方法,制备方法包括以下步骤:包括以下步骤:S1、采用固相反应法制备致密度>90%的Ta₂O₅靶材;S2、清洗单晶基片后将其送入磁控溅射设备的溅射室;S3、将溅射室抽真空,并对单晶基片进行加热;S4、向溅...
  • 本发明公开了一种便于连续改性的等离子体浸没离子注入装置,包括安装台、处理室、预处理室以及耙架,安装台设有通口,处理室连接于安装台的顶端,处理室设有进气口,处理室的底端设有第一开口,预处理室滑动安装于安装台的底端,预处理室设有第一真空口,预处...
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