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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种低温激活的吸气薄膜及其生产方法
    一种低温激活的吸气薄膜及其生产方法_南京华东电子真空材料有限公司_202510281620.5
    本发明涉及电子元件材料领域，公开了一种低温激活的吸气薄膜及其生产方法，包括：吸气层，吸气层的材质为钛锆钇合金薄膜，钛锆钇合金薄膜为通过钛原子、锆原子以及设定量的钇原子在基底表面沉积所产生的膜；吸气层的基底为不锈钢、可伐、硅、锗或陶瓷；吸气层...
    2025-05-30
  • 一种超宽幅辊筒及其表面喷涂工艺
    一种超宽幅辊筒及其表面喷涂工艺_苏州金纬机械制造有限公司_202311611581.8
    本申请公开一种超宽幅辊筒的表面喷涂工艺，包括如下步骤：S1，对辊筒的辊坯表面进行清洁处理；S2，在清洁完毕的辊坯表面喷涂结合层；S3，对喷涂有结合层的辊坯喷涂碳化钨层；S4，对喷涂有碳化钨层的辊筒表面进行磨光处理；超宽幅辊筒由内向外依次为辊...
    2025-05-30
  • 焊接表面的镀层形成方法
    焊接表面的镀层形成方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202311621275.2
    本发明的焊接表面的镀层形成方法包括：将镀件置于真空腔室内进行离子刻蚀，使所述镀件的焊接表面形成预定的刻蚀深度；所述镀件进行超声波清洗；通过气相沉积在所述镀件的所述焊接表面形成铪层；以及在沉积所述铪层的一段时间内，同时通过气相沉积在所述铪层上...
    2025-05-30
  • 半导体基材的处理方法
    半导体基材的处理方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202311622868.0
    本发明的半导体基材的处理方法，包括：清洗并烘干半导体基材；在真空腔室内，对所述半导体基材进行离子溅射镀膜处理以在所述半导体基材上形成钼薄膜层；其中，所述离子溅射镀膜处理包括：所述半导体基材由可旋转的载物台支撑，钼靶材与所述半导体基材具有预定...
    2025-05-30
  • 哑黑色功能薄膜及其制备方法
    哑黑色功能薄膜及其制备方法_中国长江电力股份有限公司_202510226139.6
    本发明属于薄膜技术领域，具体公开了一种哑黑色功能薄膜及其制备方法，该薄膜包括括设于基材表面的打底层，打底层上设有过渡层，过渡层上设有增黑功能层；其中打底层为金属单质与其碳化物，过渡层为金属碳化物和少量碳单质，增黑功能层为金属碳化物和大量碳单...
    2025-05-30
  • 一种晶圆支撑装置及薄膜沉积设备
    一种晶圆支撑装置及薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202510379486.2
    本发明提供一种晶圆支撑装置及薄膜沉积设备，晶圆支撑装置包括支撑柱和重锤，支撑柱的底部设有多个沿其高度方向间隔设置的卡槽；重锤内部设有容纳腔和通孔，通孔连通重锤外部和容纳腔；其中，支撑柱的底部穿过通孔位于容纳腔内，通过卡块卡接任意一个卡槽，且...
    2025-05-30
  • 一种金属拉丝装饰膜及其制备方法
    一种金属拉丝装饰膜及其制备方法_浙江锦盛装饰材料股份有限公司_202510183746.9
    本发明提供一种金属拉丝装饰膜及其制备方法。所述金属拉丝装饰膜的制备方法包括以下步骤：S1、对PET基材依次进行预处理进行表面活化，再对活化后的PET基材进行动态拉丝，得到PET拉丝膜；S2、在所述PET拉丝膜表面进行真空梯度镀膜，得到梯度合...
    2025-05-30
  • 一种钢板表面氧化镁涂覆工艺
    一种钢板表面氧化镁涂覆工艺_宝镁特(上海)智能工程有限公司_202510552378.0
    本发明公开了一种钢板表面氧化镁涂覆工艺，包括：将二氧化硅纳米球与乙醇作为分散剂混合，超声处理，加入含氨基官能团的物质，离心洗涤，得到含氨基官能团的二氧化硅纳米球；将含氨基官能团的二氧化硅纳米球与分散剂混合，加入硝酸镁，超声分散处理，调节pH...
    2025-05-30
  • 用于处理腔室中的基板处理的被涂覆基板支撑组件
    用于处理腔室中的基板处理的被涂覆基板支撑组件_应用材料公司_202380073727.X
    本公开案的实施方式大体涉及具有表面涂层的基板支撑件，所述表面涂层减少了基板处理期间的缺陷形成及背侧金属污染。支撑体包括具有外表面的主体及由非金属或还原金属材料形成的表面涂层，所述表面涂层安置在主体的外表面的至少一顶表面上。在一实施方式中，表...
    2025-05-30
  • 一种不锈钢的化学黑化工艺及应用
    一种不锈钢的化学黑化工艺及应用_深圳金湖电镀有限公司_202510307623.1
    本申请涉及材料表面处理领域，具体公开了一种不锈钢的化学黑化工艺及应用。不锈钢的化学黑化工艺为：将不锈钢工件除油，再依次进行活化处理和敏化处理；镀液组分包括硫酸镍、次磷酸钠、柠檬酸钠、碳纳米管，将镀液pH值控制在4.8‑5.2，温度为90‑9...
    2025-05-30
  • 一种用于金属电解阳极板的铱钽涂层及制备方法
    一种用于金属电解阳极板的铱钽涂层及制备方法_安徽络特斯科技有限公司_202411364173.1
    本发明涉及电极涂层制备技术领域，具体地说，涉及一种用于金属电解阳极板的铱钽涂层及制备方法。其包括以下原料：乙酰丙酮铱、1，3‑丙二醇、五氧化二钽、二氯二甲基铂。本发明中，在金属阳极板表面开设沟槽，然后将部分基底液涂覆在金属阳极板表面，使得基...
    2025-05-30
  • 碳系膜的成膜方法和成膜装置
    碳系膜的成膜方法和成膜装置_东京毅力科创株式会社_202411651901.7
    本发明提供碳系膜的成膜方法和成膜装置，在有选择地在沟槽、孔等图案的顶部形成碳系膜时，抑制碳系膜的悬突的产生，并且提高生产率。在成膜装置中，使晶片(W)的温度至少高于200℃，将仅由乙炔气体、氩气和氢气构成的成膜气体中的氢气的添加率设定为3％...
    2025-05-30
  • 一种射频等离子体增强化学气相沉积设备
    一种射频等离子体增强化学气相沉积设备_长三角物理研究中心有限公司_202421632676.8
    本实用新型提供一种射频等离子体增强化学气相沉积设备，具体涉及医用丝材表面处理技术领域。针对反应气体在反应腔体内分布不均匀、温度控制系统大多难以在整个反应腔体内保持均匀的温度分布、设备的反应气体利用率较低等问题，本实用新型提供了一种射频等离子...
    2025-05-30
  • 一种焊带生产用组合镀锡模具
    一种焊带生产用组合镀锡模具_西安泰力松新材料股份有限公司_202420596622.4
    本实用新型涉及一种焊带生产用组合镀锡模具，包括基体及与其配合的上盖，所述基体内腔设置有若干聚晶条，所述聚晶条的数量≥3，所述聚晶条依次连接围成镀锡孔，前一个所述聚晶条的前端与后一个相邻聚晶条的前部接触，本实用新型镀锡模具镀锡孔加工难度小，镀...
    2025-05-30
  • 一种引发式分子层沉积方法及区域选择性沉积调控方法
    一种引发式分子层沉积方法及区域选择性沉积调控方法_浙江大学_202510206622.8
    本申请公开了一种引发式分子层沉积方法及区域选择性沉积调控方法。该引发式分子层沉积方法包括如下步骤：表面激活：将基板置于反应腔体中，利用等离子体在基板表面形成反应位点；沉积：向反应腔体中通入单体，单体与反应位点作用并在基板表面沉积形成膜层；其...
    2025-05-30
  • 镀膜设备
    镀膜设备_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202422079881.2
    本申请涉及一种镀膜设备。该镀膜设备包括：腔体、波纹管、加热器、支撑柱、第一进气管道与排气管道；腔体与波纹管连通，加热器位于腔体中，支撑柱与加热器固定连接，支撑柱固定于波纹管的底面上，波纹管的侧壁环绕支撑柱，波纹管的侧壁上包括第一进气口，第一...
    2025-05-30
  • 一种喷涂设备
    一种喷涂设备_拓能(江苏)石英科技有限公司_202421628729.9
    本实用新型提供一种喷涂设备，用于石英管的内表面涂层的制备，该喷涂设备包括掩模板、旋转台和喷枪，掩模板配合石英管设计，掩模板上设有呈阵列排布的多个通孔，每个通孔贯通掩模板；旋转台用以放置石英管并带动石英管转动。本实用新型利用掩模板覆盖住石英管...
    2025-05-30
  • 一种有机发光分子薄膜相变过程的激光调控方法
    一种有机发光分子薄膜相变过程的激光调控方法_吉林大学_202310120657.0
    本发明公开了一种有机发光分子薄膜相变过程的激光调控方法，属于光电器件制备技术领域，包括步骤一：施主衬底和目标衬底的预处理；步骤二：有机发光分子薄膜相变过程的激光调控；该方法通过激光作用于有机分子的过程提供了分子处于液态或者气态的瞬时时间，大...
    2025-05-30
  • 一种在轧钢辊环上涂敷纳米复合涂层的方法
    一种在轧钢辊环上涂敷纳米复合涂层的方法_张家口中诚隆信科技有限公司_202411647220.3
    本发明属于轧钢辊环技术领域，具体涉及一种在轧钢辊环上涂敷纳米复合涂层的方法，包括以下步骤：S1、预处理；S2、真空加热处理；S3、一次刻蚀处理：对基体进行离子源轰击刻蚀处理30‑120min；S4、一次镀膜处理；S5、二次刻蚀处理；S6、二...
    2025-05-30
  • 一种紧凑型卷材等离子镀膜设备
    一种紧凑型卷材等离子镀膜设备_苏州伟欣诚科技有限公司_202510321190.5
    本发明涉及紧凑型卷材等离子镀膜设备，包括底架、真空箱、真空发生机构、收放卷机构、电极机构以及若干化学单体汽化单元，真空发生机构中的抽气组件设置在真空箱内部的上端，真空箱的底部开设有若干第一通孔，每个第一通孔连接有一化学单体汽化单元，电极机构...
    2025-05-30
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