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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种气刀大梁
    一种气刀大梁_唐山市佳冠实业有限公司_202422086867.5
    本实用新型涉及金属表面处理装置技术领域，提出了一种气刀大梁，包括外梁，将外梁的长度方向定义为纵向，水平方向上与梁的长度方向垂直的方向定义为横向，内梁横向滑动设置在外梁上，刀体摆动设置在内梁上，侧挡装置为两个相对设置，用于挡住镀锌板的两侧，气...
    2025-07-22
  • 一种端面靶组件和溅射沉积装置
    一种端面靶组件和溅射沉积装置_亚芯半导体材料(江苏)有限公司_202510561624.9
    本发明属于端面靶技术领域，具体涉及一种端面靶组件和溅射沉积装置，解决了现有技术中安全性不足和效率不足的问题，包括磁控溅射箱、溅射器以及膜片固定顶盖，溅射器呈轴向安装在磁控溅射箱的底壁上，膜片固定顶盖滑动装配在磁控溅射箱的顶部，磁控溅射箱的底...
    2025-07-22
  • 用于增加来自安瓿的通量的设备
    用于增加来自安瓿的通量的设备_应用材料公司_201880020038.1
    描述了用于半导体制造前驱物的安瓿和使用方法。安瓿包括具有入口端口和出口端口的容器。入口端口在容器内的端部具有喷头。喷头具有至少两个成角度的喷嘴，以引导空腔内的气流，使得气流不垂直于安瓿内的液体的表面。
    2025-07-22
  • 一种在铁镍合金复合材料基底上磁控溅射金属钌的方法
    一种在铁镍合金复合材料基底上磁控溅射金属钌的方法_陕西群力创达电子科技有限公司_202510492310.8
    本发明公开了一种在铁镍合金复合材料基底上磁控溅射金属钌的方法。本发明首次在铁镍合金复合材料基底上沉积金属钌，通过优化溅射参数，如溅射温度、功率、气压和时间等，实现对钌层厚度的精确控制。该方法可用于结合度好、均匀性高、厚度易控制的钌层金属的溅...
    2025-07-22
  • 一种四腔室磁控溅射静态镀膜设备及镀膜方法
    一种四腔室磁控溅射静态镀膜设备及镀膜方法_苏州维克优真空技术有限公司_202510582354.X
    本发明涉及一种四腔室磁控溅射静态镀膜设备及镀膜方法，沿基片传输方向依次包括进口转换腔、过渡加热腔、若干个静态镀膜腔和出口转换腔，所述静态镀膜腔内设置有多个用于磁控溅射的旋转阴极机构，所述旋转阴极机构包括第二旋转驱动机构和磁棒组件，第二旋转驱...
    2025-07-22
  • 连续镀膜机构
    连续镀膜机构_富联裕展科技(深圳)有限公司_202421584097.0
    一种连续镀膜机构，包括PVD镀膜机台和镀膜装置。PVD镀膜机台包括炉壁和由炉壁围成的镀膜腔室，炉壁设有第一通孔；镀膜装置包括：镀膜装置箱体、插板、伸缩件和第一电机，箱体包括相互连接的第一部和第二部，第一部包括收容腔，第二部包括第二通孔，第二...
    2025-07-22
  • 切削工具用硬质涂膜
    切削工具用硬质涂膜_韩国冶金株式会社_202180075986.7
    本发明涉及一种由硬质基材(例如硬质合金、金属陶瓷、陶瓷和立方氮化硼)以及形成在该硬质基材上的硬质涂膜构成的切削工具。本发明的切削工具用硬质涂膜以多层结构形成在切削工具的基材上，其中该硬质涂膜包括一层或多层由氧化物制成的涂膜和一层或多层由氮化...
    2025-07-22
  • 一种基于超高温陶瓷材料的复合涂层及其制备方法和应用
    一种基于超高温陶瓷材料的复合涂层及其制备方法和应用_成都工业职业技术学院_202510467807.4
    本发明提供了一种基于超高温陶瓷材料的复合涂层及其制备方法和应用，属于涂层材料技术领域。本发明通过科学合理的材料设计和先进精密的制备工艺，构建基于超高温陶瓷材料的低发射太阳能吸收涂层，将超高温陶瓷材料创新性地引入太阳能吸收涂层体系，有望突破传...
    2025-07-22
  • 钕铁硼磁体微波辅助化学气相沉积复合涂层工艺
    钕铁硼磁体微波辅助化学气相沉积复合涂层工艺_浙江南磁实业股份有限公司_202510562062.X
    本发明公开了钕铁硼磁体微波辅助化学气相沉积复合涂层工艺，属于材料工程和表面处理技术领域。传统电镀和喷涂工艺常需要在500℃以上的高温下进行，这不仅导致钕铁硼磁体晶界富钕相氧化，还可能造成磁体矫顽力和剩磁的显著下降，本发明提供了一种低温下能够...
    2025-07-22
  • 一种冲蚀防护涂层及其制备方法
    一种冲蚀防护涂层及其制备方法_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202510812355.9
    本发明提供一种冲蚀防护涂层及其制备方法，涉及表面处理技术领域。本发明冲蚀防护涂层包括从下到上依次设置在基底上的Ti层、TiN层、第一TiAlSiN层和第二TiAlSiN层，且所述第一TiAlSiN层为非晶包裹纳米晶结构，所述第二TiAlSi...
    2025-07-22
  • 一种具有耐磨耐蚀类金刚石涂层的高尔夫球头及制备方法
    一种具有耐磨耐蚀类金刚石涂层的高尔夫球头及制备方法_广州今泰科技股份有限公司_202211624286.1
    本发明公开了一种具有耐磨耐蚀类金刚石涂层的高尔夫球头及其制备方法，高尔夫球头包括表面形成有纳米硬度超过15GPa的类金刚石涂层的高尔夫球头基体，类金刚石涂层包括由内向外依次分布的厚度为0.5～0.9微米的过渡层和厚度为2.0～4.0微米的含...
    2025-07-22
  • 一种不锈钢镀膜餐具表面处理方法
    一种不锈钢镀膜餐具表面处理方法_揭阳市远升五金实业有限公司_202411580849.0
    本发明涉及一种不锈钢镀膜餐具表面处理方法，属于金属表面处理技术领域。本发明通过基材预处理，化学清洗，活化处理，真空环境下加热，离子轰击清洗，物理气相沉积法制备底层Ti层，化学气相沉积法制备中间层TiC层，高温氧化制备表层TiO2<...
    2025-07-22
  • 基于TGV上物理气相沉积（PVD）的高精度自动掩膜装置
    基于TGV上物理气相沉积（PVD）的高精度自动掩膜装置_深圳市铭德自动化设备有限公司_202510567186.7
    本发明涉及基于TGV上物理气相沉积(PVD)的高精度自动掩膜装置，包括下机架以及顶部的上机架，所述下机架与所述上机架的内部左侧设置有上工作台板，所述下机架与所述上机架的内部右侧设置有右平台底架，所述右平台底架的顶部设置有右平台结构，所述上工...
    2025-07-22
  • 一种钽钛锆高熵合金及其制备方法
    一种钽钛锆高熵合金及其制备方法_西安交通大学_202310266303.7
    本发明公开了一种钽钛锆高熵合金及其制备方法，在真空环境下采用磁控溅射方法在基体上制备钽钛锆高熵合金；所述钽钛锆高熵合金中钛和锆的原子百分比之和大于50％，将得到的基体进行真空冷却至室温，最后在进行真空退火，得到退火态钽钛锆高熵合金，该钽钛锆...
    2025-07-22
  • 一种汽车曲轴耐高温抗变形表面处理设备
    一种汽车曲轴耐高温抗变形表面处理设备_德清丽顺汽车配件有限公司_202510528095.2
    本发明公开了一种汽车曲轴耐高温抗变形表面处理设备，包括底板，所述底板顶部固定安装有架板，还包括共渗炉、安装在所述架板上用于带动所述共渗炉进行升降的升降机构以及用于带动所述升降机构进行移动的传动机构，所述底板顶部一侧固定安装有酸洗炉，所述酸洗...
    2025-07-22
  • 一种热镀锌辅助加热装置
    一种热镀锌辅助加热装置_河南腾阳金属制品有限公司_202422359618.9
    本实用新型公开了一种热镀锌辅助加热装置，属于热镀锌技术领域，包括加热箱，加热箱的内顶面对称安装有两个连接盒，两个连接盒的内壁均安装有若干个为热镀锌工件加热提供热量的电热丝，两个连接盒的内底面均连通有用于输送热量的连通管，加热箱的顶面安装有驱...
    2025-07-22
  • 一种使磷化膜均匀的方法及在防止叫模现象中的应用
    一种使磷化膜均匀的方法及在防止叫模现象中的应用_新余新钢金属制品有限公司_202510528932.1
    本发明涉及钢丝拉拔领域，公开了一种使磷化膜均匀的方法及在防止叫模现象中的应用，生产低压缩率钢丝时，将半成品钢丝放入酸洗池进行酸洗除锈；然后将酸洗除锈后的半成品钢丝放入表调箱进行钢丝表面调节；半成品钢丝在表调箱中与表面调节液发生反应；取出反应...
    2025-07-22
  • 基于高纯度生物质碳源的等离子化学气相沉积设备
    基于高纯度生物质碳源的等离子化学气相沉积设备_深圳市库比克科技有限公司_202510797089.7
    本发明涉及化学气相沉积设备技术领域，且公开了基于高纯度生物质碳源的等离子化学气相沉积设备，包括底板，所述底板的上侧固定安装有气化炉、冷凝塔、粗过滤器、催化器、膜分离器、CVD设备，所述膜分离器的上侧设置有气体导入分配组件，所述气化炉、冷凝塔...
    2025-07-22
  • 一种基片翻转镀膜装置
    一种基片翻转镀膜装置_苏州佑伦真空设备科技有限公司_202422365577.4
    本实用新型提出一种基片翻转镀膜装置，包括回转机构、防着板、治具承板，防着板设于治具承板下方，回转机构与主腔体的顶板连接，回转机构下方设有连接支架，通过连接支架将防着板与治具承板固定；治具承板上设有多个安装孔，每个安装孔内设置有翻转件，安装孔...
    2025-07-22
  • 一种晶圆加热器和分区域吹扫的方法
    一种晶圆加热器和分区域吹扫的方法_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202510472184.X
    本发明涉及半导体设备技术领域，具体地涉及一种晶圆加热器和分区域吹扫的方法。本发明提供了一种晶圆加热器，包括：加热器主体，其侧面设有多个吹扫气孔，所述吹扫气孔围绕所述加热器主体的边缘分布，所述多个吹扫气孔被划分为N个独立控制区域，所述加热器主...
    2025-07-22
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