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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种激光反射镜膜层制备工艺
    一种激光反射镜膜层制备工艺_南京志辰光学技术有限公司_202510292143.2
    本发明涉及激光反射镜膜层制备技术领域，尤其涉及一种激光反射镜膜层制备工艺，包括以下步骤：提供光学基底，并使用超声波对基底表面进行清洁和抛光处理；设计多层膜结构，所述多层膜结构由高折射率材料和低折射率材料交替组成；采用物理气相沉积或化学气相沉...
    2025-06-10
  • 一种可控结构的三维碳材料制备方法
    一种可控结构的三维碳材料制备方法_山西大学_202510219330.8
    本发明提供一种可控结构的三维碳材料制备方法，涉及纳米材料领域，包括以下步骤：在清洗后的基底表面涂覆光敏性光刻胶，之后进行曝光和显影形成特定的图案；将样品放入PECVD设备的加热区，将基底加热至预设温度；向反应室内通入载气，退火完成后停止通气...
    2025-06-10
  • 真空室装填吸附剂的双面温控卷绕蒸镀设备
    真空室装填吸附剂的双面温控卷绕蒸镀设备_正创堂(深圳)新材料科技有限公司_202422167467.7
    本实用新型公开了真空室装填吸附剂的双面温控卷绕蒸镀设备，包括真空仓，所述真空仓内部一端的中部设置有冷却鼓，所述真空仓内部一端一侧的顶部和底部分别设置有收卷辊和放卷辊，所述真空仓一侧的顶部设置有电子束枪，所述真空仓内部一端的靠近冷却鼓的底部设...
    2025-06-10
  • 一种热障涂层
    一种热障涂层_中国民用航空飞行学院_202411310210.0
    本发明涉及热障涂层技术领域，特别涉及一种热障涂层。本发明实施例提供一种热障涂层，包括隔热层，所述隔热层包括多个垂直于所述隔热层厚度方向的纵向裂缝，所述纵向裂缝一端延伸至所述隔热层表面，另一端位于所述隔热层内部，所述纵向裂缝中填充有吸热材料，...
    2025-06-10
  • 一种可高度调节的坩埚台结构
    一种可高度调节的坩埚台结构_信利光电股份有限公司_202421682584.0
    本实用新型公开了一种可高度调节的坩埚台结构，涉及真空镀膜技术领域，其包括坩埚台和支撑件，支撑件与坩埚台之间通过升降结构连接且支撑件能够沿着坩埚台轴向定位移动，且坩埚内液面的下降时，支撑件能够相对坩埚台轴向移动；本实用新型通过升降结构带动支撑...
    2025-06-10
  • 一种笔记本电脑塑壳双层电磁屏蔽溅镀装置
    一种笔记本电脑塑壳双层电磁屏蔽溅镀装置_东台市旭浩精密科技有限公司_202421704260.2
    本实用新型涉及塑壳溅镀技术领域，且公开了一种笔记本电脑塑壳双层电磁屏蔽溅镀装置，包括溅镀装置外壳和升降夹持机构，所述溅镀装置外壳的内壁开设有溅镀槽，所述溅镀槽的内壁固定连接有限位升降架，所述限位升降架的外壁固定连接有第三驱动电机。该笔记本电...
    2025-06-10
  • 一种泡沫铍材料的制备方法
    一种泡沫铍材料的制备方法_中国工程物理研究院激光聚变研究中心_202310760681.0
    本发明公开了一种泡沫铍材料的制备方法，属于金属铍功能材料技术领域，本发明采用PAMS为造孔材料，先将其进行球磨达一定粒径或直接采用PAMS空心微球作为芯轴，后在其表面溅射沉积一定厚度的铍涂层，然后将该复合物置于加热炉中升温使PAMS发生热分...
    2025-06-10
  • 一种MPCVD腔体结构
    一种MPCVD腔体结构_成都腾六光电有限公司_202421748770.X
    本实用新型涉及一种MPCVD腔体结构，包括底板和支撑在底板上的可调支撑件，所述底板的上表面设置有下壳体，所述可调支撑件可调节地将上壳体悬置在所述下壳体的上方，从而所述下壳体能够与所述上壳体相配合地构建出沉积生长腔室；在所述下壳体内设置有沉积...
    2025-06-10
  • 一种石墨复合材料及其制备方法
    一种石墨复合材料及其制备方法_伯恩光学(惠州)有限公司_202310025021.8
    一种石墨复合材料及其制备方法。所述石墨复合材料包括石墨基体、附着于所述石墨基体表面的平坦层、附着于所述平坦层表面的过渡层、以及附着于所述过渡层表面的抗氧化层。所述制备方法包括如下步骤：步骤S1，对石墨基体进行清洗；步骤S2，在所述石墨基体的...
    2025-06-10
  • 可控制碳PECVD膜沉积
    可控制碳PECVD膜沉积_朗姆研究公司_202380075200.0
    本文所公开的示例涉及使用PECVD而在衬底上可控制地形成碳膜。一个示例提供了一种方法，其包括将衬底设置在PECVD处理室内，将气体混合物供应到PECVD处理室中，该气体混合物包括钝化剂或蚀刻剂中的一者或更多者和碳膜前体，以及控制处理室条件以...
    2025-06-10
  • 一种高强韧/低热导/抗热辐射穿透一体化热障陶瓷涂层的制备方法
    一种高强韧/低热导/抗热辐射穿透一体化热障陶瓷涂层的制备方法_哈尔滨工业大学_202310365999.9
    一种高强韧/低热导/抗热辐射穿透一体化热障陶瓷涂层的制备方法，它属热障涂层材料技术领域。本发明的目的是要解决现有方法制备的抗热辐射穿透热障涂层材料存在贵金属第二相不仅价格昂贵而且金属掺杂第二相与陶瓷基相间的热膨胀系数差别很大，导致材料在高温...
    2025-06-10
  • 一种CVD金刚石表面高热导Ti涂层的制备方法
    一种CVD金刚石表面高热导Ti涂层的制备方法_哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)_202510597541.5
    本发明主要提出一种CVD金刚石表面高热导Ti涂层的制备方法，包括步骤1：预处理，将CVD金刚石基底依次进行超声丙酮清洗、超声酸洗、超声去离子水漂洗及脱水烘干；步骤2：离子注入，将步骤1中经预处理后的金刚石基底置于离子注入设备真空室中，以Ti...
    2025-06-10
  • 一种耐腐蚀镀锌钢管及其制备工艺
    一种耐腐蚀镀锌钢管及其制备工艺_江苏智润管业有限公司_202510258590.6
    本发明涉及镀锌钢管技术领域，公开了一种耐腐蚀镀锌钢管及其制备工艺；本发明通过水热法合成氨基改性的碳点缓蚀剂，随后通过偶联反应将多巴胺单体以共价键形式连接在其表面，制备功能化碳点缓蚀剂。最终，将其用作插层剂以改性并剥离氮化硼，制备插层改性氮化...
    2025-06-10
  • 氨基烷氧基二硅氮烷化合物、包含其的含硅薄膜沉积用组合物及使用其的含硅薄膜的制备方法
    氨基烷氧基二硅氮烷化合物、包含其的含硅薄膜沉积用组合物及使用其的含硅薄膜的制备方法_DNF有限公司_202411779883.0
    本发明涉及一种氨基烷氧基二硅氮烷化合物、包含其的含硅薄膜沉积用组合物及制备使用其的含硅薄膜的方法，本发明的氨基烷氧基二硅氮烷化合物可作为热稳定且具有高挥发性及反应性的化合物使用含硅前驱体，因此可通过多种沉积方法，形成具有优异的物理及电特性的...
    2025-06-10
  • 一种钢带连续热镀锌用温控装置
    一种钢带连续热镀锌用温控装置_无锡联创薄板有限公司_202422017469.8
    本实用新型公开了一种钢带连续热镀锌用温控装置，涉及镀锌加工技术领域，包括：炉体和锌锅，所述锌锅设于所述炉体内，所述炉体的内侧壁上安装有用于对锌锅进行加热的加热组件，所述加热组件包括，燃气管道，设于所述炉体与锌锅之间，围绕所述锌锅，其中部连接...
    2025-06-10
  • 一种球阀表面激光熔覆定位装置
    一种球阀表面激光熔覆定位装置_江苏苏盐阀门机械有限公司_202510601685.3
    本发明涉及激光熔覆技术领域，具体为一种球阀表面激光熔覆定位装置，包括底座与激光喷射头，所述底座的两侧均设置有支撑杆，所述支撑杆的外侧壁上设置有定位机构，通过限位件等机构的设置，可以在伸缩杆通过三爪卡盘带动球阀本体转动时，对伸缩杆进行一个定位...
    2025-06-10
  • 用于磷裂解源的控温装置、磷裂解源以及真空处理系统
    用于磷裂解源的控温装置、磷裂解源以及真空处理系统_费勉仪器科技(上海)有限公司_202421900394.1
    本公开涉及真空设备技术领域，公开了一种用于磷裂解源的控温装置、磷裂解源以及真空处理系统。用于磷裂解源的控温装置，包括流体管道和冷却池。流体管道用于允许冷却流体流通进入冷却区。冷却池用于容纳流体管道的至少一部分，以对流体管道中的冷却流体进行冷...
    2025-06-10
  • 流体输送装置和镀膜装置
    流体输送装置和镀膜装置_江苏微导纳米科技股份有限公司_202510321739.0
    本申请提供了一种流体输送装置和镀膜装置，流体输送装置包括流体输送组件，流体输送组件用于输出介质，流体输送组件至少包括可拆卸连接的第一流体输送件和第二流体输送件，第一流体输送件上设置有第一输送通道用于输送第一介质；第一输送通道包括第一输出端，...
    2025-06-10
  • 一种低温真空镀膜装置
    一种低温真空镀膜装置_江苏彩衣真空科技有限公司_202421944219.2
    本实用新型涉及镀膜技术领域，公开了一种低温真空镀膜装置，包括箱体，所述箱体的顶部固定连接有驱动组件，所述箱体的内部转动连接有转动杆，所述转动杆的外部开设有多个卡槽，所述转动杆的外部固定连接有多个放置盘，所述放置盘的外部滑动连接有滑动杆，所述...
    2025-06-10
  • 升降旋转机构和半导体工艺腔室
    升降旋转机构和半导体工艺腔室_北京北方华创微电子装备有限公司_202311675592.2
    本发明提供一种升降旋转机构和半导体工艺腔室，升降旋转机构包括驱动轴承、升降座、升降驱动组件、旋转驱动组件和多个导向杆，其中多个导向杆平行设置，且导向杆的顶部用于与腔体底部固定连接，升降座活动设置在多个导向杆上，驱动轴承的轴套固定设置在升降座...
    2025-06-10
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