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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种带电磁屏蔽槽的偏压样品台装置
    一种带电磁屏蔽槽的偏压样品台装置_碳方程半导体设备制造(山西)有限公司_202422093783.4
    本实用新型公开了一种带电磁屏蔽槽的偏压样品台装置，涉及微波等离子体化学气相沉积技术领域，包括基台，样品台内设有陶瓷管，陶瓷管内安装有滑套，滑套底部设有紧固螺钉，滑套内设有复位弹簧，复位弹簧上设有活塞柱，滑套底部设有导线，导线上套设有导线保护...
    2025-06-24
  • 一种用于热镀锌钢管表面锌层厚度的调节装置
    一种用于热镀锌钢管表面锌层厚度的调节装置_天津市宝来利镀锌钢管有限公司_202421862962.3
    本实用新型公开了一种用于热镀锌钢管表面锌层厚度的调节装置，包括热镀锌池，热镀锌池的顶部通过升降机构连接有顶板，顶板的底部设有夹持机构，夹持机构的一侧安装有驱动机构，支撑架的一侧通过移动机构连接有固定座，固定座的一端通过调节机构连接有刮刀，本...
    2025-06-24
  • 一种钢镀锌锌层厚度控制装置
    一种钢镀锌锌层厚度控制装置_浙江慧钢技术发展股份有限公司_202422127464.0
    本实用新型涉及镀锌装置技术领域，具体的说是一种钢镀锌锌层厚度控制装置，包括镀锌箱，所述镀锌箱的箱壁处安装有镀锌机构，所述镀锌机构由固定架、电动伸缩杆、支撑杆、横板、电机、放置筒、蜂窝孔和连接架组合构成，所述镀锌箱的箱壁处通过螺栓安装有一组对...
    2025-06-24
  • 一种加工装置及镀膜设备
    一种加工装置及镀膜设备_营口金辰机械股份有限公司_202422219930.8
    本申请公开了一种加工装置及镀膜设备，涉及但不限于加工技术领域。加工装置包括壳体和第一阻挡件。壳体形成有腔室和进气通孔，腔室内设置有加工区域，进气通孔开设于腔室的腔壁，且进气通孔的出气口朝向加工区域。第一阻挡件设置于腔室，并与出气口相对设置，...
    2025-06-24
  • 一种金属质感PVD真空涂层及电子设备外壳
    一种金属质感PVD真空涂层及电子设备外壳_东莞市久至臻新材料科技有限公司_202422052900.2
    本实用新型公开了一种金属质感PVD真空涂层及电子设备外壳，属于PVD涂层技术领域，包括PVD涂层，所述PVD涂层均匀沉积于外壳体的表面，PVD涂层包括氮碳化钛层、氮化铝层、氮化铬铝层、金属底层、耐腐蚀底层和电磁屏蔽层，其中，金属底层的上表面...
    2025-06-24
  • 化学气相沉积设备
    化学气相沉积设备_乐金显示光电科技(中国)有限公司_202422234001.4
    本实用新型涉及一种化学气相沉积设备，包括壳体、上电极、下电极和集气罩。壳体内形成有沉积腔室，上电极设置于沉积腔室的顶部，下电极可升降设置于沉积腔室的底部。集气罩的一端与上电极的周部连接，另一端与下电极的周部选择性连接，并使上电极、下电极和集...
    2025-06-24
  • 一种原子层沉积设备
    一种原子层沉积设备_北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司_202510301317.7
    本发明公开一种原子层沉积设备，涉及半导体技术领域，以解决现有原子层沉积结构中，对腔体进行清洗时对设备进行停机清洗，降低了生产效率的问题。原子层沉积设备包括反应腔、气体输送系统和等离子体发生器；其中，反应腔包括腔体和设置于所述腔体内的基座，所...
    2025-06-24
  • 电镜试样制备用离子溅射仪
    电镜试样制备用离子溅射仪_沈阳正恒科技有限公司_202421826952.4
    本实用新型涉及离子溅射镀膜技术领域，公开了电镜试样制备用离子溅射仪，包括离子溅射仪主机，所述离子溅射仪主机的顶部转动设有旋转台架，所述旋转台架的顶部设有与水平线倾斜的喷金台，其中所述喷金台与旋转台架转动连接，所述喷金台的顶部均布有用于承载和...
    2025-06-24
  • 一种利用磁控共溅射工艺在聚酰亚胺表面制备非晶合金防护薄膜的方法
    一种利用磁控共溅射工艺在聚酰亚胺表面制备非晶合金防护薄膜的方法_哈尔滨工业大学_202311031708.9
    一种利用磁控共溅射工艺在聚酰亚胺表面沉积制备非晶合金防护薄膜的方法，涉及一种非晶合金防护薄膜的制备方法。旨在解决现有的聚酰亚胺薄膜的空间环境耐受能力差的问题。方法：聚酰亚胺薄膜基底的处理，进行离子预溅射，在磁控溅射真空室中进行非晶合金防护薄...
    2025-06-24
  • 一种便于在线维护的膜厚监控设备
    一种便于在线维护的膜厚监控设备_苏州凯瑞纳米科技有限公司_202421951083.8
    本实用新型公开了一种便于在线维护的膜厚监控设备。便于在线维护的膜厚监控设备，包括：固定盘，所述固定盘上端转动设有齿盘，所述齿盘上设有若干通孔，通孔内设有防护镜，所述固定盘一侧固定设有安装座，所述安装座上设有电机，所述电机上端设有齿轮，所述齿...
    2025-06-24
  • 一种穿腔块结构及应用其的薄膜沉积设备
    一种穿腔块结构及应用其的薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202510370689.5
    本发明公开了一种穿腔块结构及应用其的薄膜沉积设备，穿腔块结构包括第一穿腔块、第二穿腔块以及通气组件，第一穿腔块和第二穿腔块上下设置，通气组件具有至少两个，且至少两个通气组件能够替换地设置于第一穿腔块和第二穿腔块之间；其中每个通气组件上具有不...
    2025-06-24
  • 一种应用于ALD设备的腔体抽气孔滤网
    一种应用于ALD设备的腔体抽气孔滤网_北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司_202510299608.7
    本发明公开一种应用于ALD设备的腔体抽气孔滤网，涉及原子层沉积技术领域，以解决现有原子层沉积用滤网容易堵塞且过滤效果差的问题。包括设置在抽气管道内的多层滤网，沿远离抽气管道入口方向，多层滤网的网孔尺寸逐渐减小；反应腔体的气流经过多层滤网实现...
    2025-06-24
  • 一种温度控制方法、装置、电子设备及存储介质
    一种温度控制方法、装置、电子设备及存储介质_北京北方华创微电子装备有限公司_202311865090.6
    本申请公开了一种温度控制方法、电子设备及半导体工艺设备，属于半导体技术领域。所述方法包括：获取当前温度设定值；根据所述当前温度设定值对各个所述温度控制区进行控温，对达到所述当前温度设定值的所述温度控制区进行保温，直至全部所述温度控制区的温度...
    2025-06-24
  • 一种溅射沉积组件、沉积室、真空沉积设备
    一种溅射沉积组件、沉积室、真空沉积设备_上海治臻新能源股份有限公司_202211490804.5
    本申请涉及溅射沉积组件、沉积室、真空沉积设备，溅射沉积组件包括：屏蔽罩；溅射阴极，所述溅射阴极位于所述屏蔽罩内，所述溅射阴极包括靶材和磁体组；电极板组，所述电极板组位于所述屏蔽罩内，所述电极板组包括位于所述溅射沉积组件的等离子体两侧的两个电...
    2025-06-24
  • 一种基于传感控制的光学镀膜机无尘进气装置
    一种基于传感控制的光学镀膜机无尘进气装置_湖南天氟新材料有限公司_202422268057.1
    本实用新型提供了一种基于传感控制的光学镀膜机无尘进气装置，包括镀膜机本体、气体除杂模块、气体去湿模块和气体调节模块；所述气体除杂模块的出气端依次与气体去湿模块、气体调节模块和镀膜机本体的进气端连接；其中，气体除尘模块包括进气管道、水箱、搅拌...
    2025-06-24
  • 一种微波等离子体化学气相沉积组合腔室
    一种微波等离子体化学气相沉积组合腔室_杭州晶驰机电科技有限公司_202421990963.6
    本实用新型涉及一种微波等离子体化学气相沉积组合腔室，它属于微波等离子体化学气相沉积领域。本实用新型包括组合腔室、顶部法兰安装面和底部密封法兰安装面，组合腔室包括天线腔室、反应腔室、传输腔室和抽气腔室，组合腔室上方设置顶部法兰安装面，组合腔室...
    2025-06-24
  • 一种方便轴承组件制备涂层的辅助装置
    一种方便轴承组件制备涂层的辅助装置_河南科技大学_202422127483.3
    本实用新型公开一种方便轴承组件制备涂层的辅助装置，属于轴承镀膜辅助装置技术领域，包含样品架和连接架组件，所述样品架设置在镀膜试验机上，所述轴承组件包括轴承内圈和轴承外圈，所述连接架组件包括内圈连接架和外圈连接架，其中，内圈连接架一面连接在样...
    2025-06-24
  • 一种表面梯度钽的钛基牙种植体的制备方法及其产品
    一种表面梯度钽的钛基牙种植体的制备方法及其产品_沈阳市口腔医院_202510486687.2
    本发明属于钛基牙种植体制备技术领域，提供了一种表面梯度钽的钛基牙种植体的制备方法及其产品，具体包括以下步骤：S1，将钛基牙种植体装入工作室，并在工作室内放置钽靶材；S2，对工作室进行抽真空操作，随后打开加热器，将温度加热至预设温度值；S3，...
    2025-06-24
  • 一种具备多重防护功能的高精度CVD反应器
    一种具备多重防护功能的高精度CVD反应器_苏州耀德半导体有限公司_202422078904.8
    本实用新型公开了一种具备多重防护功能的高精度CVD反应器，涉及化学反应控制技术领域。本实用新型包括反应罐，以及与反应罐适配安装的控制组件，所述反应罐包括罐体、固定于罐体周侧下部的支座、密封连接于罐体端部的罐盖、设置于罐体内部的内胆，以及穿设...
    2025-06-24
  • 一种原子层沉积设备
    一种原子层沉积设备_北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司_202510301010.7
    本发明公开一种原子层沉积设备，涉及半导体技术领域，以解决现有原子层沉积设备中，气相前驱体在反应腔体中的均匀性不足而导致的基片沉积均匀性差的问题。原子层沉积设备包括腔体主体、第一管道、多个导流管和基座；其中，腔体主体的顶部设有通孔，第一管道贯...
    2025-06-24
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