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五金工具产品及配附件制造技术
  • 三真空室磁控镀膜设备
    三真空室磁控镀膜设备_肇庆市科润真空设备有限公司_202421702999.X
    本实用新型公开一种三真空室磁控镀膜设备，包括依次设置的前旋转传送台、第一真空室、第二真空室、第三真空室和后旋转传送台，各真空室底部设有工件小车的传动组件，第一真空室与前旋转传送台之间、第一真空室与第二真空室之间、第二真空室与第三真空室之间、...
    2025-08-04
  • 具有微流道的固态前驱体输送装置及输送方法
    具有微流道的固态前驱体输送装置及输送方法_上海集成电路材料研究院有限公司_202310301665.5
    本发明提供一种具有微流道的固态前驱体输送装置及输送方法，在所述托盘中设置可与所述托盘匹配安装、用以承载固态前驱体的所述隔板，且所述隔板内具有隔板微流道，所述隔板的底面具有与所述隔板微流道相连通的隔板进气口，所述隔板的表面具有与所述隔板微流道...
    2025-08-04
  • 一种基片台的提升装置
    一种基片台的提升装置_深圳市矩阵多元科技有限公司_202422106023.2
    本实用新型公开了一种基片台的提升装置，涉及半导体生产技术领域，包括基座和升降台，所述基座的两侧均至少设有一个导杆和至少一个升降气缸，升降台滑动连接于基座，升降台的两侧均设有直线轴承，直线轴承与导杆滑动配合，升降气缸上的活塞杆末端设有与升降台...
    2025-08-04
  • 一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法
    一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法_华中科技大学_202310163273.7
    本发明属于超精密加工领域，并公开了一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法，方法的具体步骤包括：在清洁后的单晶金刚石表面离子镀特定厚度的金属薄膜；利用纳秒脉冲激光对金属薄膜进行烧蚀，当金属薄膜被完全烧蚀后，继续烧蚀，直至所述单晶金刚石上生成石墨层。本...
    2025-08-04
  • 基板镀膜设备及其镀膜方法
    基板镀膜设备及其镀膜方法_乐金显示光电科技(中国)有限公司_202510530161.X
    本发明公开了一种基板镀膜设备及其镀膜方法，其中设备包括镀膜室和中转室，镀膜室内设置有用于向基板的表面进行沉积镀膜的沉积装置，中转室内设置有机械手和支撑座，机械手用于将镀膜后的基板放置于支撑座上，中转室还设置有补偿装置，补偿装置包括驱动机构和...
    2025-08-04
  • 加工炉、加工设备、刻蚀方法及加工方法
    加工炉、加工设备、刻蚀方法及加工方法_华为技术有限公司_202410105519.X
    本申请提供了一种加工炉、加工设备、刻蚀方法及加工方法。其中，加工炉包括：第一炉管，第一炉管内形成有第一空腔；第二炉管，第二炉管套设于第一炉管的外侧，且第二炉管与第一炉管之间形成有第二空腔，第二空腔与第一空腔连通；第一进气管，第一进气管的一端...
    2025-08-04
  • 一种薄膜沉积装置及其沉积方法
    一种薄膜沉积装置及其沉积方法_安徽熙泰智能科技有限公司_202310784588.3
    本发明属于半导体产品制造领域技术领域的一种薄膜沉积装置，本发明还涉及一种薄膜沉积方法。每个蒸镀源(20)位置分别设置对应的曲面反射器(30)，镀膜腔壁(10)下部还设置平面反射器(40)，镀膜腔壁(10)中部设置分束器(50)，分束器(50...
    2025-08-04
  • 气相沉积装置
    气相沉积装置_宁波盈创科技成果转化服务合伙企业(有限合伙)_202422453659.4
    本实用新型公开了一种气相沉积装置，气相沉积装置包括：反应设备，反应设备内形成有反应腔，反应设备上还设置有反应腔的进口；升华设备，升华设备与反应设备构造为一体结构，升华设备上形成有与反应设备相贴合的连接面，升华设备内形成有与反应腔连通的升华腔...
    2025-08-04
  • 掩膜组件及掩膜板
    掩膜组件及掩膜板_合肥维信诺科技有限公司_202310092962.3
    本发明提供一种掩膜组件及掩膜板，所述掩膜组件包括本体和垫片，所述本体包括第一通孔、以及围设在所述第一通孔外侧的凹槽，所述垫片可拆卸安装于所述凹槽内，所述垫片具有第二通孔，当所述垫片安装于所述凹槽内，所述第二通孔在所述本体上的投影至少部分位于...
    2025-08-04
  • 成膜量测定装置及方法、成膜装置及方法、电子器件的制造方法
    成膜量测定装置及方法、成膜装置及方法、电子器件的制造方法_佳能特机株式会社_202211264102.5
    本发明提供能够提高生产率的成膜量测定装置、成膜装置、成膜量测定方法、成膜方法以及电子器件的制造方法。在第一期间，进行使用第一石英振子的成膜量的测定，在从所述第一期间结束起到第二期间开始为止的期间，暂停基于所述第一石英振子的成膜量的测定，在所...
    2025-08-04
  • 一种基板装载治具及镀膜装置
    一种基板装载治具及镀膜装置_光驰科技(上海)有限公司_202210432157.6
    本发明涉及薄膜制备技术领域，公开一种基板装载治具及镀膜装置。其中基板装载治具包括母装载台和子装载台，子装载台包括边框和设置于边框上的放置面，边框置于母装载台上，边框与母装载台可拆卸连接，放置面设置有预设曲度，放置面用于承载与其曲度适配的基板...
    2025-08-04
  • 双面同时镀膜的卷绕式镀膜机
    双面同时镀膜的卷绕式镀膜机_中禾科技(常州)股份有限公司_202310943688.6
    本申请涉及双面同时镀膜的卷绕式镀膜机，属于镀膜机技术领域，双面同时镀膜的卷绕式镀膜机包括真空室、放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和收卷辊均转动设置在真空室内，所述真空室内转动设置有第一主辊和第二主辊，所述第一主辊和第二主辊相对设置，位于所述放卷辊...
    2025-08-04
  • 金属板部件及其生产方法
    金属板部件及其生产方法_蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司_202180064456.2
    本发明涉及一种金属板部件，其由热成型的扁钢产品制成，该扁钢产品包括钢基材，以及施加在该钢基材上的Al基腐蚀保护层，该钢基材的组成以质量％计为：C:0.1‑0.4％,Mn:0.5‑3.0％,Si:0.05‑0.5％，Cr:0.005‑1.0％...
    2025-08-04
  • 一种含β-葡聚糖的羊奶粉及其制备工艺
    一种含β-葡聚糖的羊奶粉及其制备工艺_黑龙江养可滋乳业有限责任公司_202510755191.0
    本发明公开了一种含β‑葡聚糖的羊奶粉及其制备工艺，涉及羊奶粉技术领域。该含β‑葡聚糖的羊奶粉包括如下重量组分：羊乳粉600‑800份，低聚果糖液50‑150份，低聚异麦芽糖150‑180份，浓缩乳清蛋白粉8‑12份，中链甘油三酯18‑22份...
    2025-08-04
  • 进气组件、半导体工艺腔室及半导体工艺方法
    进气组件、半导体工艺腔室及半导体工艺方法_北京北方华创微电子装备有限公司_202410263836.4
    本申请公开一种进气组件、半导体工艺腔室及半导体工艺方法，属于半导体技术领域。进气组件包括相连的进气窗和切换阀板，切换阀板与进气窗相对，进气窗设有第一气体进气口和第二气体进气口，切换阀板可相对于进气窗在第一位置和第二位置之间运动，且切换阀板设...
    2025-08-04
  • 一种钙钛矿太阳能电池在线扫面式磁控溅射设备及镀膜方法
    一种钙钛矿太阳能电池在线扫面式磁控溅射设备及镀膜方法_湖南红太阳光电科技有限公司_202410122314.2
    本发明公开一种钙钛矿太阳能电池在线扫面式磁控溅射设备及镀膜方法，设备包括设备本体，及依次设置在设备本体内的前装卸载腔、至少一个镀膜工艺腔和后装卸载腔，前装卸载腔与镀膜工艺腔之间、相邻的镀膜工艺腔之间以及镀膜工艺腔与后装卸载腔之间均设有用于控...
    2025-08-04
  • 镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线
    镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线_北京核夕菁科技有限公司_202211307533.5
    本申请公开了一种镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线，包括：向待测量材料发射X射线，待测量材料为镀材和基材结合后形成的材料；接收由待测量材料反射的X射线并形成X射线光谱；基于X射线光谱确定已标定的镀材频率点和基材频率点，基材频率点为X射线...
    2025-08-04
  • 蒸发装置
    蒸发装置_浙江伊格西隆智能制造有限公司_202422125932.0
    本实用新型提供了一种蒸发装置，包括：加热件和加热盒，加热件具有开启状态和关闭状态，加热盒具有加热腔，加热腔用于容纳待蒸发颗粒物；第一加电部件，第一加电部件设置在加热腔内，至少部分第一加电部件和待蒸发颗粒物接触，以使第一加电部件对待蒸发颗粒物...
    2025-08-04
  • 一种微波铁氧体隔离器基板的制作方法
    一种微波铁氧体隔离器基板的制作方法_深圳市博敏电子有限公司_202110288883.0
    本发明公开了一种微波铁氧体隔离器基板的制作方法，包括：磁控溅射镍铬铁合金靶材在铁氧体基片表面沉积形成打底层复合膜。本发明通过定制特定比例的镍铬铁合金靶材，以磁控溅射的方式完成镍铬铁复合膜在铁氧体基片上的淀积，此复合膜可实现与镀铜层一次混合蚀...
    2025-08-04
  • 晶圆保持环及承载盘
    晶圆保持环及承载盘_杰平方半导体(上海)有限公司_202421729740.4
    本实用新型公开了一种晶圆保持环及承载盘，属于半导体镀膜技术领域，该晶圆保持环，包括：环形主体；第一斜坡，沿一高度方向形成于所述环形主体的顶部，且所述第一斜坡的内侧高度高于外侧高度；以及承托台，沿径向方向形成在所述环形主体的内侧，用于承托晶圆...
    2025-08-04
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