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一种角度手动调节装置
本实用新型属于手动调节装置领域,具体的说是一种角度手动调节装置,包括阴极体,阴极体的上部固定连接于角度调节管的端部,角度调节管的上部固定连接有管夹二,角度调节管的下部固定连接有管夹一,管夹一的端部螺纹连接有角度调节螺钉,角度调节螺钉的端部螺...
一种刀具装载机构和真空镀膜机
本申请公开了一种刀具装载机构和真空镀膜机,刀具装载机构包括载物台、工件架组件、第一传动结构、第一驱动器、第二传动结构和第二驱动器,工件架组件设置于载物台;第一传动结构与载物台固定连接;第一驱动器通过第一传动结构带动载物台旋转,载物台以自身的...
一种钢结构表面镀锌设备翻转机构
本实用新型涉及钢结构镀锌技术领域,尤其涉及一种钢结构表面镀锌设备翻转机构。其技术方案包括:固定箱以及活动连接在固定箱顶部的四个活动柱,其特征在于:固定箱上设有翻转组件和夹持组件,翻转组件包括固定安装在四个活动柱顶部的固定框,固定框的顶部转动...
一种轮毂真空镀膜装置
本发明提供了一种轮毂真空镀膜装置,包括筒体、转柱、安装板、引导板和圆台,筒体竖直设置,安装板转动设置于转柱的周面上,轮毂绕自身轴线转动设置于安装板上,引导板设置于安装板上,引导板呈弧形,且引导板内弧面朝向轮毂轴线,引导板与轮毂轴线之间设有夹...
一种气门表面氮化处理剂、制备方法及其使用工艺
本发明公开了一种气门表面氮化处理剂、制备方法及其使用工艺,按重量份数计包括以下组分:NaCNO30~70份、K
2
CO
3
10~30份、KCl10~30份、NaCl10~30份、KOH5~15份、Ce...
一种碳材料镀膜结构
本实用新型提供一种碳材料镀膜结构,涉及碳材料加工技术领域。该碳材料镀膜结构,包括工作台,所述工作台上端固定有支撑架,所述支撑架上端固定有气缸,所述气缸驱动端固定有镀膜箱,所述镀膜箱中部固定有磁控靶,所述磁控靶通过连接管与真空箱相连通;所述工...
热镀锌设备的吹气装置和热镀锌设备
本公开涉及热镀锌设备技术领域,尤其涉及一种热镀锌设备的吹气装置和热镀锌设备,吹气装置包括:支架,支架包括两个横梁,两个横梁等高平行布置,且位于热镀锌设备的热镀锌槽上方;两个连接板,两个连接板沿水平方向分别可移动地连接在两个横梁上;和气刀,气...
一种重量控制机构及蒸镀装置
本实用新型公开一种重量控制机构及蒸镀装置,涉及蒸镀技术领域,本实用新型提供的重量控制机构包括:杠杆,具有相对的第一端和第二端,杠杆的第一端用于支撑坩埚;支撑座,支撑座与杠杆相铰接,且支撑座和杠杆的铰接点位于杠杆的第一端和第二端之间;监测机构...
一种金属化薄膜蒸镀机的送丝机构
本实用新型公开了一种金属化薄膜蒸镀机的送丝机构,涉及金属化薄膜蒸镀机技术领域,包括支架、安装于支架表面一侧的第一安装座、设置于支架表面中部的输送器以及可拆卸设置于支架表面另一侧的安装板,第一安装座上安装有第一导丝管,安装板上设置有第二安装座...
一种磁控管实时运动在线监控保护装置及磁控溅射设备
本实用新型公开了一种磁控管实时运动在线监控保护装置及磁控溅射设备,磁控管实时运动在线监控保护装置包括:磁控管腔;磁控管,位于磁控管腔内部,磁控管上安装有激光反射部;驱动组件,与磁控管连接,用于驱动磁控管沿第一方向运动;激光测距装置,包括激光...
镀膜辊及真空镀膜设备
本实用新型提供了一种镀膜辊及真空镀膜设备。镀膜辊具有用于容置冷却液的容置腔以及与容置腔连通的进出液口,镀膜辊具有镀膜表面;镀膜表面为回转面,镀膜表面的母线长度是镀膜辊在轴线上的长度的[1+(1×10
‑5
~1×10
一种用于真空离子镀膜设备的冷却系统
本实用新型涉及一种用于真空离子镀膜设备的冷却系统,包括进液分配单元、出液分配单元、换热单元、调节单元,镀膜腔室上设置有各镀膜源装置,镀膜腔室上具有A冷却腔道单元,各镀膜源装置上分别具有B冷却腔道单元,调节单元用于对流体的流速或流量进行调节,...
一种热浸镀锌铝镁钢板设备
本实用新型提供一种热浸镀锌铝镁钢板设备,属于热浸镀锌铝镁技术领域,包括夹持机构,所述夹持机构包括U形架,所述U形架的内部转动连接有第一滚筒,所述U形架的外侧固定安装有固定框,所述固定框的内部滑动连接有移动板,所述移动板的内部转动连接有第二滚...
一种PPR管螺纹嵌件的表面耐蚀防腐涂层结构
本实用新型提供了一种PPR管螺纹嵌件的表面耐蚀防腐涂层结构,它解决了螺纹件耐腐蚀层结构强度不足等问题,其包括沉积在螺纹嵌件表面的Cr打底层、CrN过渡层、Cr
x
W
1‑x
N表层,Cr打底层的厚度为0...
一种用于液压泵活塞PVD涂层涂覆的装夹装置
本实用新型的一种用于液压泵活塞PVD涂层涂覆的装夹装置,包括:箱体;伸缩电机,设于所述箱体外侧壁上;控制杆,与所述箱体连接,与所述伸缩电机连接;控制块,设于所述控制杆上;第一支撑杆,与所述控制块铰接;固定块,设于所述箱体内壁上,所述第一支撑...
一种基于双气流的高效掺杂HFCVD设备
一种基于双气流的高效掺杂HFCVD设备,包括反应腔、气体导入结构,气体导入结构包括四路气体管道,上、下两个进气口;第一路气体管道通入的是反应气体,第二路气体管道通入的是载气,第一、第二两路气体管道的气体混合后从第一进气管通过上进气口即导入到...
用于金属预处理应用的铋组合物
本发明提供了在多种金属基材上沉积铋转化涂层的铋转化涂料组合物、制备铋转化涂料组合物的方法、在金属基材上沉积铋转化涂层的方法以及具有包含铋转化涂层的金属表面的制品。
横流式原子层沉积设备
本发明提供一种横流式原子层沉积设备。设备包括外腔、内反应腔、横流进气装置、底部加热器及支撑夹具;横流进气装置位于内反应腔的一侧,且与内反应腔连通;内反应腔的底面部分向上凸起而形成凹槽,底部加热器至少部分位于凹槽内,且与内反应腔的底面贴合;支...
一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置
本实用新型属于远程等离子体技术领域,具体为一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置。本匀气装置采用双层匀气盘结构,包括上层匀气盘、下层匀气盘;上层匀气盘安装在等离子体内腔桶口,通过上层外侧边缘的螺丝孔与外腔其他零件连接;下层匀气盘安装在上...
改善氮化硅薄膜刻蚀区间均匀性的方法
本发明提供一种改善氮化硅薄膜刻蚀区间均匀性的方法,所述方法包括:提供用于沉积氮化硅薄膜的反应腔,所述反应腔的底部设有进气口,其顶部设有出气口,且所述反应腔内放置有晶舟;于所述反应腔内的一侧设置注入装置以用于注入反应气体,且所述注入装置的一端...
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