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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法
    一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法_光晋科技(合肥)有限公司_202510472957.4
    本申请涉及氧化钇绝缘涂层制备技术领域，且公开了一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法，本方案以下所述的步骤：步骤一：将碳纤维载板进行除污作业；步骤二：将碳纤维载板进行干燥作业；步骤三：将碳纤维载板进行喷涂作业；步骤...
    2025-07-02
  • 一种基于MXene/ZnIn2S4复合气敏材料的制备及其阴极阵列涂覆方法
    一种基于MXene/ZnIn<Sub>2</Sub>S<Sub>4</Sub>复合气敏材料的制备及其阴极阵列涂覆方法_威海精讯畅通电子科技有限公司_202510210272.2
    本申请公开了一种基于MXene/ZnIn2S4复合气敏材料的制备及其阴极阵列涂覆方法，其属于半导体纳米材料与MEMS气体传感器制造技术领域，通过MXene表面终端调控实现ZnIn2
    2025-07-02
  • 溅镀上下料设备
    溅镀上下料设备_达丰(重庆)电脑有限公司_202422025031.4
    本实用新型涉及溅镀设备技术领域，特别是涉及一种溅镀上下料设备，包括溅镀上料缓存机构；溅镀盖取治具机构，与所述溅镀上料缓存机构连接，用于将溅镀后的产品上的治具取下，并将治具盖于待溅镀的产品上；分选打标签机构，与所述溅镀盖取治具机构连接，用于对...
    2025-07-02
  • 一种PEALD腔体结构及其镀膜工艺
    一种PEALD腔体结构及其镀膜工艺_厦门韫茂科技有限公司_202510265140.X
    本发明提供了一种PEALD腔体结构，涉及镀膜设备技术领域。该结构包括外腔体、内腔体、升降系统、加热载台、抽气系统及压力控制器。内腔体设置于外腔体内部，底部形成适配加热载台的开口，升降系统控制加热载台与内腔体的连接与分离。内腔体内设置分隔体，...
    2025-07-02
  • 一种液压元件用自反应润滑涂层及其制备方法
    一种液压元件用自反应润滑涂层及其制备方法_浙江大学_202510426373.3
    本发明公开了一种液压元件用自反应润滑涂层及其制备方法，包括基体预处理、Cr打底、制备梯度层和掺W类金刚石层等步骤。该涂层结构由Cr底层、Cr/C梯度层、W/C梯度层和W‑DLC顶层组成，这种梯度多晶层结构设计使得基体和涂层之间的机械性能过渡...
    2025-07-02
  • 一种热障涂层的制备方法
    一种热障涂层的制备方法_中国民用航空飞行学院_202411310213.4
    本发明涉及热障涂层技术领域，特别涉及一种热障涂层的制备方法。本发明实施例提供一种热障涂层的制备方法，包括：将浆料利用离子喷涂工艺喷涂在待保护的基底上，得到具有纵向裂纹的隔热层；其中，所述纵向裂缝垂直于所述隔热层，所述纵向裂纹的一端延伸至所述...
    2025-07-02
  • 一种镀锌铁丝的生产工艺
    一种镀锌铁丝的生产工艺_宁夏博伟金属制品有限公司_202510273495.3
    本发明涉及塑料铁丝技术领域，具体为一种镀锌铁丝的生产工艺，包括以下步骤：生产输送、铁丝定向移动、铁丝镀锌和镀锌液循环。本发明能有效的保证镀锌液浓度的均匀性，避免出现镀锌液溢流的情况，能有效回收镀锌液，还能添加新的镀锌液，保证镀锌液浓度的均匀...
    2025-07-02
  • 用于基板温度控制的方法和设备
    用于基板温度控制的方法和设备_应用材料公司_202380083588.9
    用于控制基板温度的方法及设备包括：测量经受沉积处理的基板；分析所述基板的测量以检测所述基板的缺陷；及基于若检测到缺陷的所述分析，发送反馈信号以修改使用于在所述沉积处理中控制所述基板的温度的温度控制器的温度控制参数，且若未检测到缺陷，不发送反...
    2025-07-02
  • 基板处理方法
    基板处理方法_ASM IP私人控股有限公司_202110410051.1
    一种防止损坏下部图案化结构的基板处理方法包括：通过多次执行第一循环来形成具有一定厚度的第一薄膜，该第一循环包括将第一反应物供应到结构上并吹扫残留物；以及通过改变具有一定厚度的第一薄膜的化学成分来形成第二薄膜。
    2025-07-02
  • 沉积氮化硅层的方法、该方法形成的结构以及执行系统
    沉积氮化硅层的方法、该方法形成的结构以及执行系统_ASM IP私人控股有限公司_202110034059.2
    公开了用于在表面上沉积氮化硅之前预处理所述表面的方法和系统。示例性方法包含通过将所述表面暴露于由包括氮和氢的一种或多种气体形成的活性物种来预处理所述表面。预处理的步骤可另外包含将所述表面暴露于包括硅的气体的步骤。
    2025-07-02
  • 一种自动化学气相沉积装置及其应用
    一种自动化学气相沉积装置及其应用_北京大学深圳研究生院_202510191418.3
    本申请公开了一种自动化学气相沉积装置及其应用。本申请自动化学气相沉积装置包括炉体、样品管、样品杆、密封件和位移平台；炉体具有容纳样品管的腔体；密封件用于对炉体和样品管进行密封，密封件有开口，便于样品杆穿过，伸入样品管；样品杆可拆卸安装于位移...
    2025-07-02
  • 实体碳化硅制造工艺
    实体碳化硅制造工艺_重庆原石智能装备有限公司_202510480642.4
    本发明涉及实体碳化硅制造领域，尤其涉及实体碳化硅制造工艺，包括有大型反应器、喷气口、腔体、排气管线、真空泵、初级尾气设备、次级尾气设备、中和水处理系统；本发明安装60°、120°的分流喷嘴，使基材的沉积均匀，以多管喷嘴形式减少Si气体种类的...
    2025-07-02
  • 一种增强镀钌钼片及其制备方法
    一种增强镀钌钼片及其制备方法_成都虹波实业股份有限公司_202510704278.5
    本发明公开了一种增强镀钌钼片及其制备方法，属于镀钌钼片的技术领域。所述制备方法包括：通过磁控溅射的方式，在钼片表面真空溅射镀一层厚度为0.1~0.5μm的高纯钼镀层，获得镀钼钼片；将镀钼钼片进行氧化酸洗及离子清洗，其后通过气相沉积的方式，在...
    2025-07-02
  • 带有类金刚石薄膜的工件
    带有类金刚石薄膜的工件_东莞新科技术研究开发有限公司_202311844088.0
    本发明公开了一种带有类金刚石薄膜的工件，其包括基材、第一类金刚石膜层、氮化硅膜层、第二类金刚石膜层和弹性体层；第一类金刚石膜层设于基材上，氮化硅膜层设于第一类金刚石膜层上，第二类金刚石膜层设于氮化硅膜层上，第一类金刚石膜层、氮化硅膜层和第二...
    2025-07-02
  • 一种厨房水槽真空镀膜方法
    一种厨房水槽真空镀膜方法_东莞市龙铮真空设备有限公司_202210784754.5
    本发明涉及金属表面处理技术领域，具体涉及一种厨房水槽真空镀膜方法，通过如下步骤制得：S1、取水槽进行前处理；S2、将水槽转入真空炉内抽真空加热，关闭节流阀，通入氩气，打开偏压，保持占空比，进行活化；S3、关闭氩气，调节真空度，通入氩气，设定...
    2025-07-02
  • 一种多层金刚石相变强化方法
    一种多层金刚石相变强化方法_北方工业大学_202510421174.3
    本发明提供了一种多层金刚石相变强化方法，涉及材料强化技术领域，包括：步骤S1、衬底表面预处理；步骤S2、籽晶的播种；步骤S3、制备无孔洞缺陷金刚石层；步骤S4、制备含孔洞缺陷的孪晶金刚石层；步骤S5、制备多层金刚石；步骤S6、金刚石相变强化...
    2025-07-02
  • 一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置
    一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置_奥卓真空设备技术(珠海)有限公司_202520746200.5
    本实用新型公开了一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置，包括台体，台体的顶部安装有机械手，台体的一侧外壁安装有进片室，台体的另一侧外壁安装有出片室，进片室的前方安装有装卸站，出片室的前方安装有回流架，装卸站与回流架的顶端均安装有能够拆卸的基片...
    2025-07-02
  • 一种多腔室火焰水解沉积装置
    一种多腔室火焰水解沉积装置_苏科斯(江苏)半导体设备科技有限公司_202420767810.9
    本实用新型属于火焰水解沉积技术领域，具体公开了一种多腔室火焰水解沉积装置，包括沉积设备本体、反应气体箱和废气处理单元，所述沉积设备本体内设有反应腔室、样品载物台和驱动样品载物台旋转的动力单元，所述样品载物台位于反应腔室的底部，所述样品载物台...
    2025-07-02
  • 镁合金及镁合金制备方法
    镁合金及镁合金制备方法_歌尔股份有限公司_202311870274.1
    本申请实施例提供了一种镁合金及镁合金制备方法。所述镁合金包括镁合金基体和复合涂层，所述复合涂层包括结合层、纹理层和着色层，所述结合层、所述纹理层和所述着色层依次设置于所述镁合金基体表面；其中，所述着色层的厚度范围为1～10μm。本申请实施例...
    2025-07-02
  • 去除沉积在金属性部件上的残余涂层的系统和方法
    去除沉积在金属性部件上的残余涂层的系统和方法_ASMIP私人控股有限公司_202411931269.1
    提供了一种从包含钛的金属性部件去除原子层沉积(ALD)涂层的方法。还公开了用于促进去除金属性部件上无意的残余ALD涂层的过程的系统。预处理包含残余涂层的金属性部件为化学底切提供更大表面积。此外，将金属性部件浸入清洁化学溶液中并搅动清洁化学溶...
    2025-07-02
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