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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本实用新型涉及投影仪散热结构领域,公开了一种LED光路散热结构,包括无尘内循环密封盖,所述无尘内循环密封盖底部固定连接有内循环U型散热器A,所述无尘内循环密封盖底部固定连接有内循环U型散热器B,所述内循环U型散热器A与所述内循环U型散热器B...
  • 一种系统,包括第一容器和第二容器。第一容器接收图案形成装置并在第一容器内维持预定环境。第二容器接收第一容器并在第二容器内维持真空。第二容器包括凸缘、第一端和第二端。凸缘位于第二容器的外部。第二容器可以经由凸缘而被夹持和运输。第一端包括真空阀...
  • 一种MEMS掩模版mura缺陷改善方法包括:S1,将晶圆上分布芯片的MEMS半成品测试,显示整个晶圆Map图像,确定mura纹类型;S2,如果一芯片的mura纹类型为斜纹、全部芯片为斜纹且斜纹的分布规律形成整体发散状,从工艺端调整旋涂,如果...
  • 本实用新型涉及一种助拍器,包括主体、磁吸件和电子设备,主体包括相连的手柄主体和安装主体,安装主体具有沿其厚度方向相对设置的第一安装面和第二安装面;主体设有容纳腔,容纳腔具有连通外界的开口,容纳腔在手柄主体与安装主体之间延伸;磁吸件设置于安装...
  • 本实用新型属于全息投影技术领域,具体公开了一种投影仪成像的全息投影设备,包括支架以及固定在支架上的成像组件、成像纸、光路反射镜片和发光组件;发光组件水平放置于支架上,发光组件发出的光照射在光路反射镜片上,经过光路反射镜片反射,照射在光路反射...
  • 本公开涉及双面压印方法及设备,其中,该方法包括:控制第一压印模板完成对待压印晶圆的第一表面上的压印胶的压印,其中,待压印晶圆设置在晶圆固定装置上且待压印晶圆的第二表面与晶圆固定装置直接接触,第一表面和第二表面为相互平行且相对的平面;控制旋转...
  • 本申请提供一种投影仪控制方法、装置、系统、设备及存储介质,涉及投影仪技术领域。该方法包括:确定投影仪中发光单元的亮度等级;根据发光单元的亮度等级,确投影仪中散热单元的目标作业参数;根据目标作业参数控制散热单元进行散热。应用本申请实施例,可以...
  • 本申请涉及一种基于离轴涡旋光束的全息复用方法,包括编码过程和解码过程。其中,编码过程包括:对于各图像通道,分配具有不同离轴量的离轴涡旋光束;对各图像通道的图像进行采样,生成各图像通道对应的相位型全息图;确定离轴涡旋光束的相位分布;将各图像通...
  • 本公开的实施例提供了用于修正掩模图形的方法、设备和存储介质。该方法包括:在版图中邻近于目标图形布置至少一个亚分辨率辅助图形SRAF,目标图形包括至少一个图形片段;以及对目标图形执行第一阶段光学邻近校正OPC修正,其中在第一阶段OPC修正期间...
  • 本发明公开了一种分子层沉积制备的可擦除有机无机杂化图案化薄膜,通过交替沉积无机前驱体与有机配体,在衬底表面形成高精度、均匀的杂化光刻胶薄膜,具体步骤包括:采用MLD技术,通过真空沉积、气源切换及循环吹扫工艺,精确控制薄膜成分与厚度;利用紫外...
  • 本发明为层积固化体、固化性树脂组合物、干膜以及层积固化体的制造方法,提供一种兼具填埋性、绝缘可靠性和分辨率的固化物层、用于该固化物层的固化性树脂组合物、由该固化性树脂组合物形成的干膜以及该固化物层的制造方法。所述固化物层可以是例如层积固化体...
  • 本发明提供了一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质,应用于半导体技术领域。在本发明中,在对原始版图中的所有主图形进行第一次光学临近校正,得到第一修正版图后,可从该第一修正版图中筛选出存在拼接缺陷的至少一主图形,并将该筛选出的主图形重新进行...
  • 本发明公开了一种高重复频率飞秒激光脉冲串双光子光刻3D打印系统。所述系统包括激光光源模块、激光传输系统、样品位移系统、监控系统和可编程终端。激光光源模块输出激光,经过激光传输系统将激光聚焦到光刻胶中。可编程终端分别与激光光源模块、激光传输系...
  • 本发明提供了适用于形成含锡膜的前体。所述前体包含官能化锡化合物,其中一或多个配位体与Sn配位,且所述Sn被至少一个官能团官能化。进一步提供了形成所述前体的方法和使用所述前体来形成含锡膜的方法。
  • 本实用新型提供一种掩模版和半导体器件。所述掩模版包括:功能区,所述功能区内设有功能图案;设于所述功能区一侧的监控区,所述监控区内设有监控图案以及虚设图案;所述监控区的开孔率和所述功能区的开孔率的比值处于预设范围内;其中,所述开孔率为图案面积...
  • 本发明公开了一种超薄油墨加工方法,包括如下步骤:1)卷材清洗;2)喷墨;3)预烘烤;4)曝光;5)显影;6)后烘烤或光固化;7)覆膜;8)切割,使用喷墨代替丝印,不仅效率高、而且油墨厚度更均匀、更薄,而黄光工艺制作的产品图形精度高,图案边缘...
  • 本发明提供一种涂胶显影设备,涉及涂胶显影设备技术领域,包括SPIN单元、涂胶装置和显影装置,SPIN单元包括承载平台,用于承载晶圆并控制晶圆旋转,晶圆上具有光刻胶,使晶圆旋转后,光刻胶在晶圆的上方形成光刻胶层,其中涂胶装置位于SPIN单元的...
  • 本公开提供了用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法,用于形成半导体图案结构的方法包括如下步骤。执行对准操作,以将具有第一预设图案的掩膜版与底部对准层对准,并获取对准参数。利用读取的偏移参数补正对准参数,以使掩膜版的对准位置发生偏...
  • 本发明公开了一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法,包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂,所述非离子表面活性剂为:
  • 本发明提供基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统,涉及半导体对准优化与智能控制领域,包括主体系统,主体系统中包含数据采集模块、数据处理与存储模块、分析模拟模块和预测与校正模块;数据采集模块设置于光刻设备关键位置的传感器,包含部署...
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