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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 制备透明树脂层的方法和制造包括透明树脂层的显示设备的方法
    制备透明树脂层的方法和制造包括透明树脂层的显示设备的方法_三星显示有限公司_202510123560.4
    本申请涉及制备透明树脂层的方法和制造包括透明树脂层的显示设备的方法。制备透明树脂层的方法包括：通过将光固化组合物施加到包括第一区的基板上来形成光固化组合物层；进行(a)曝光工艺，用掩模覆盖光固化组合物层的第一区并用第一光曝光光固化组合物层；...
    2025-08-05
  • 相机系统及附属品
    相机系统及附属品_富士胶片株式会社_202422250276.7
    本实用新型提供相机系统及附属品,其容易视觉辨认基于发光部的发光。该相机系统具备：相机，其具有能够通过发光来通知相机的信息的发光部；及附属品，能够安装于相机上，其中，附属品在安装于相机的状态下，作为用于确认相机的摄影范围的取景器而发挥功能，当...
    2025-08-05
  • 硅片定位装置和接触式曝光机
    硅片定位装置和接触式曝光机_天水天光半导体有限责任公司_202422170049.3
    本申请提供一种硅片定位装置和接触式曝光机，涉及光刻技术领域。硅片定位装置包括承片台和多个定位销组件，多个定位销组件均安装于承片台上，多个定位销组件在预设路径上间隔排布，多个定位销组件中位于最边侧的两个定位销组件之间形成待定位的供硅片本体进出...
    2025-08-05
  • 掩模版及其修正方法
    掩模版及其修正方法_锐立平芯微电子(广州)有限责任公司_202411845654.4
    本申请公开了掩模版及其修正方法。该掩模版包括：基板；位于所述基板上的主图案和辅助图案，所述辅助图案的线宽小于所述主图案的线宽，其中，所述辅助图案包括外轮廓及其围绕的开口，以使所述辅助图案的有效线宽小于实际线宽。该掩模版的修正方法包括相对于亚...
    2025-08-05
  • 基于混合表面等离子体波导曝光结构的纳米光刻方法及装置
    基于混合表面等离子体波导曝光结构的纳米光刻方法及装置_中国科学院微电子研究所_202211338625.X
    本申请公开一种基于混合表面等离子体波导曝光结构的纳米光刻方法及装置，涉及集成电路制造工艺领域。方法包括：基于所述表面等离子体光刻曝光结构的场强分布数据，结合双曲线拟合方式确定所述表面等离子体光刻曝光结构的曝光图形深度理论解析式；基于所述第一...
    2025-08-05
  • 用于OPC建模的方法、设备和存储介质
    用于OPC建模的方法、设备和存储介质_全芯智造技术有限公司_202510416248.4
    根据本公开的示例实施例提供了用于光学邻近校正（OPC）建模的方法、设备和存储介质。该方法包括：初始化用于OPC模型的多个核函数，多个核函数至少包括第一类别的核函数和第二类别的核函数，第一类别的核函数指示随距离增加而衰减的光学邻近效应，第二类...
    2025-08-05
  • 一种多媒体影像展示装置
    一种多媒体影像展示装置_上海张江超艺多媒体系统股份有限公司_202421916819.8
    本实用新型公开了一种多媒体影像展示装置，包括支撑架，所述支撑架顶端固定连接有调平安装机构，所述调平安装机构上安装有幕布，所述支撑架底端安装有万向轮和稳定机构，所述调平安装机构包括固定板，所述固定板上转动连接有转动轴，所述转动轴侧表面固定连接...
    2025-08-05
  • 一种晶圆曝光方法
    一种晶圆曝光方法_锐立平芯微电子(广州)有限责任公司_202411571782.4
    本申请公开了一种晶圆曝光方法，主要采用曝光机根据该晶圆曝光方法对晶圆进行曝光，曝光时晶圆位于晶圆载台的承片台上。晶圆曝光方法包括：将预设的子程序写入曝光机的执行程序中；在曝光机停机重启后的第一时间内调用子程序对承片台上的晶圆进行曝光；在曝光...
    2025-08-05
  • 投影设备、投影设备的散热方法及装置
    投影设备、投影设备的散热方法及装置_青岛海信激光显示股份有限公司_202480006038.1
    本申请公开了一种投影设备、投影设备的散热方法及装置，属于投影技术领域。投影设备中的散热装置包括液冷组件和散热风扇中的至少一个，该投影设备还包括热回收组件。如此对投影设备中的电子器件进行降温，并对电子器件产生的热量进行回收以便再利用，提高了投...
    2025-08-05
  • 一种站台门控制系统及方法
    一种站台门控制系统及方法_广州地铁集团有限公司_202510272513.6
    本发明公开了一种基于嵌入式的站台门控制系统及方法，控制系统包括：信号输入模块、逻辑模块及信号输出模块；信号输入模块的输入端与外部信号连接；逻辑模块的输入端与信号输入模块的输出端、信号输出模块的输出端连接；逻辑模块的输出端与信号输入模块的输入...
    2025-08-05
  • 曝光机的灯源的节能式智能冷却系统
    曝光机的灯源的节能式智能冷却系统_科斯迈股份有限公司_202421628948.7
    一种曝光机的灯源的节能式智能冷却系统，包含机壳单元、风冷单元，及水冷单元。所述机壳单元适用于容装所述灯源。所述风冷单元包括风道，及风机。所述风道具有入风口与出风口。所述风机产生经由所述风道进入所述机壳单元的气流，并使所述气流通过所述灯源后排...
    2025-08-05
  • 一种双冗余毁钥触发装置
    一种双冗余毁钥触发装置_陕西千山航空电子有限责任公司_202210853739.1
    本发明提供了一种双冗余毁钥触发装置，包括检测控制电路，其输入端连接电源，输出端分别连接时间控制电路和信号输出电路，时间控制电路的输出端连接信号输出电路，信号输出电路的输出端连接毁钥控制装置；当加速度达到毁钥触发条件时，检测控制电路为时间控制...
    2025-08-05
  • 信号放大电路、通信装置和电子设备
    信号放大电路、通信装置和电子设备_奇瑞汽车股份有限公司_202510431332.3
    本申请涉及一种信号放大电路、通信装置和电子设备。该电路包括可变增益放大器、第一电压跟随器、第二电压跟随器和增益调节模块；可变增益放大器的正输出端与负输出端分别连接第一电压跟随器和第二电压跟随器的输入端，信号放大电路的正输出端与负输出端分别连...
    2025-08-05
  • 掩模版的修正方法
    掩模版的修正方法_锐立平芯微电子(广州)有限责任公司_202411855375.6
    本申请公开了掩模版的修正方法。该修正方法包括：获得掩模版的初始图案；对掩模版进行全芯片的光学邻近效应修正；识别掩模版中的薄弱点；对薄弱点进行预定区域的光学邻近效应修正；以及获得掩模版的最终图案，其中，预定区域包括薄弱点及其附近区域。该掩模版...
    2025-08-05
  • 一种轨道车机系统同步控制方法及轨道车机系统
    一种轨道车机系统同步控制方法及轨道车机系统_国能朔黄铁路发展有限责任公司_202510518110.5
    本发明涉及轨道交通列车运行监控系统技术领域，尤其是涉及一种轨道车机系统同步控制方法及轨道车机系统。通过设置两条同步单元工作触发机制，使同步单元的工作被控由现有技术中单一的控制信号激活转变为控制信号以及通信信息同步激活的方式，从根本上解决了既...
    2025-08-05
  • 摄影摄像设备防水壳体的双向操作装置
    摄影摄像设备防水壳体的双向操作装置_东莞力途精密科技有限公司_202421595415.3
    本实用新型公开了一种摄影摄像设备防水壳体的双向操作装置，包括操作机构和执行机构，操作机构包括旋转操作件、连接轴以及弹性复位组件，连接轴穿设在防水壳体上，弹性复位组件连接在连接轴上，旋转操作件连接在连接轴上；执行机构包括连接组件以及第一按压部...
    2025-08-05
  • 一种在轨单元故障替换方法及装置
    一种在轨单元故障替换方法及装置_浙江衣拿智能科技股份有限公司_202211306706.1
    本发明公开了一种在轨单元故障替换方法及装置，该方法包括当检测到某个在轨单元出现故障时，计算该在轨单元所在巡检域的巡检视野的缺失比率，同步发送替换请求；当检测到所述缺失比率超出预定义的补充阈值时，响应所述替换请求，全局搜索冗余配置比率大于波动...
    2025-08-05
  • 确定光刻匹配性能
    确定光刻匹配性能_ASML荷兰有限公司_202180014173.7
    描述了一种确定用于半导体制造的工具之间的匹配性能的方法以及相关联的工具。该方法包括获得与多个工具相关的多个数据集，以及在减小的空间中的所述数据集的表示，该减小的空间具有减小的维度。基于匹配减小的空间中的所述减小的数据集，确定匹配度量和/或匹...
    2025-08-05
  • 一种光刻机镜头寿命延长的方法
    一种光刻机镜头寿命延长的方法_纳光电(太原)研究院有限公司_202510813203.0
    本发明涉及光刻机技术领域，更具体而言，涉及一种光刻机镜头寿命延长的方法。包括以下步骤：S1、准备工作：将四氯乙烯倒入清洗槽中，进行加热；S2、清洗过程：将待清洗的光刻机投影镜头浸泡在四氯乙烯中；S3、冲洗：清洗完毕后，将镜头取出，采用溶剂对...
    2025-08-05
  • 掩膜版图设计和掩膜版制备方法、及半导体结构形成方法
    掩膜版图设计和掩膜版制备方法、及半导体结构形成方法_中芯国际集成电路制造(北京)有限公司_202410123943.7
    一种掩膜版图设计和掩膜版制备方法、及半导体结构形成方法，其中掩膜版图设计方法包括：根据初始版图生成第一透光版图，第一透光版图包括若干插塞图形，插塞图形在第一透光版图中的位置与初始插塞图形在初始版图中的位置相同；生成第二透光版图，第二透光版图...
    2025-08-05
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