申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2019-12-13

公开（公告）日：2020-06-26

公开（公告）号：CN111338186A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101)

优先权：["20181218 JP 2018-236721"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.12#授权;2021.01.01#实质审查的生效;2020.06.26#公开

摘要：决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法，决定用于接合曝光的关于基板的第1拍摄区及第2拍摄区的对位的校正量，接合曝光对第1拍摄区曝光形成第1像，对与第1拍摄区的一部分重复的第2拍摄区曝光形成第2像，得到叠接第1像和第2像的像，求出用于上下层的重叠的重叠标志间的位置偏移量即第1位置偏移量，求出用于第1拍摄区和第2拍摄区的对位的接合位置测量标志间的位置偏移量即第2位置偏移量，将第1位置偏移量加上预定比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为第1拍摄区和第2拍摄区重复的接合区域中的第1像的校正量，将从第1位置偏移量减相对预定比例的剩余比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为接合区域中的第2像的校正量。

主权项：1.一种决定方法，决定用于接合曝光的与基板的第1拍摄区域以及第2拍摄区域的对位有关的校正量，该接合曝光中对所述第1拍摄区域进行曝光来形成第1像，对与所述第1拍摄区域的一部分重复的所述第2拍摄区域进行曝光来形成第2像，得到将所述第1像和所述第2像叠接的像，所述决定方法的特征在于，求出作为用于进行上下层的重叠的重叠标志之间的位置偏移量的第1位置偏移量，求出作为用于进行所述第1拍摄区域和所述第2拍摄区域的对位的接合位置测量标志之间的位置偏移量的第2位置偏移量，将对所述第1位置偏移量加上预定比例的所述第2位置偏移量而得到的位置偏移量决定为所述第1拍摄区域和所述第2拍摄区域重复的接合区域中的所述第1像的校正量，将从所述第1位置偏移量减去相对所述预定比例的剩余比例的所述第2位置偏移量而得到的位置偏移量决定为所述接合区域中的所述第2像的校正量。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法

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