申请/专利权人:三井金属矿业株式会社
申请日:2018-12-19
公开(公告)日:2020-07-17
公开(公告)号:CN111433866A
主分类号:H01B13/00(20060101)
分类号:H01B13/00(20060101);C09D5/24(20060101);C09D201/00(20060101);C23C26/00(20060101);H01B1/22(20060101)
优先权:["20171222 JP 2017-246809"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.10.08#授权;2020.08.11#实质审查的生效;2020.07.17#公开
摘要:在形成含有导电性赋予粒子的组合物的涂膜、并通过对该涂膜的光烧成来制造导电膜的方法中,在上述涂膜的光烧成之前将该涂膜沿其厚度方向压缩。在上述组合物中包含的结合剂的储能模量成为100MPa以下的温度下将上述涂膜压缩是适宜的。按照向厚度方向的压缩率成为25%以上且80%以下的方式将上述涂膜压缩也是适宜的。光烧成工序中的光的照射设定为脉冲光的照射是适宜的。
主权项:1.一种导电膜的制造方法,其是形成包含导电性赋予粒子的组合物的涂膜、并通过对该涂膜的光烧成来制造导电膜的方法,在所述涂膜的光烧成之前将该涂膜沿其厚度方向压缩。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 三井金属矿业株式会社 导电膜的制造方法
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